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光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 德国SUSS
- 美国Sonoplot
- 美国Photonics
- 美国OAI
- China
- 俄罗斯Optosystem
- 美国Coherrent
- 中科院
- 纳米压印机
- Elinoix 电子束光刻机
- 尼康Nikon光刻机
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 激光微加工设备
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 英国AML晶圆键合机
- 德国Raith 电子束光刻机
- 德 xiton 准分子激光器
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
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- 美国Nano-master
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- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- Syskey 镀膜系统
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率Ｘ射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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- 少子寿命测试仪
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- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- XRD X射线衍射仪
- X 射线多晶衍射仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- 德国IPI 水汽分析系统
- 德国PVA TePla 超声波扫描显微镜
- 德国ThetaMetrisis膜厚测量仪
实验检测仪器
- PPMS 综合物性测量系统
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- 纽迈核磁共振分业析
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- 德国耐驰Netzsch
- 德国Moeller 测角仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 接触角测量仪
- 氟油检漏仪
- 光学式坐标测量仪
- 光功率计
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 纳米压痕仪
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 振动样品磁强计
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- 智能型氦液化器
- 美OAI 光功率计
- 英Glovebox 手套箱
- LakeShore 振动样品磁强计
- 德国Attocube 显微镜
- 粒子碰撞噪声检测仪
- Rion 液体光学颗粒度仪
- ADLEMA 检漏机
- 德YXLON CT检测
- 电子元器件水份分析仪
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 蓝星宇UV清洗机
- SAMCO紫外臭氧清洗机
太阳能检测仪
UV灯
日立Hitachi
半导体辅助工艺/光刻胶
光刻胶/硅片
化学开封机 / 激光开封机
日本Elionix
德国Lecia 切片掩膜一体机
尼康Nikon光刻机
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
日本理音Rion 微粒子计数器
德国Netzsch
德国YXLON 检测仪
已选条件
产品分类
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CANON光刻机主要型号及参数详解
canon光刻机主要型号及参数详解,canon（佳能）的光刻机虽然在市场份额上不如asml，但在特定领域（如ic前道、后道封装、面板显示等）仍有一定竞争力。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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尼康主要的光刻机型号及其关键参数
尼康（nikon）是光刻机领域的重要厂商之一，尤其在duv（深紫外）光刻机市场中占据重要地位。涵盖i-line、krf和arf等技术节点，以及与euv（极紫外）
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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NIKON光刻机型号及参数详解
尼康（nikon）是光刻机领域的重要厂商之一，尤其在duv（深紫外）光刻机市场中占据重要地位，其产品广泛应用于半导体制造、面板显示等领域。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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德国 Raith 150 Two 高分辨电子束光刻机
德国 raith 150 two 高分辨电子束曝光系统，可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆
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德国Raith eLINE Plus 电子束光刻机
eline plus®是广泛用于寻求将高效且无妥协的电子束光刻系统与开放平台相结合进行进一步纳米加工工艺和技术的大学和研究机构的最 优系统
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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ELPHY 专业纳米光刻和纳米加工途径
德国raith elphy 最 简单且最 具经济性的专 业纳米光刻和纳米加工途径，这是一套纳米光刻升级套件，能够使扫描电子显微镜 (sems)、聚焦离子束显微镜 (fibs)、氦离子显微镜 (hims) 或组合系统 (fib‑sems) 实现专业的纳米光刻应用。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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AWB-04, AWB-08,ROCK-04,ROCK-08英国AML原位对准晶圆键合机
英国aml原位对准晶圆键合机对准+活化+键合，一站式完成，并具有纳米压印功能。是目前市场上能够实现在同一设备上完成原位对准、激活、键合的设备，是mems，ic，和iii-v键合工艺的最佳选择
价 格：￥电议型 号： AWB-04, AWB-08,ROCK-04,ROCK-08产 地：欧洲
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HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻机用曝光灯HBO系列
suss苏斯/休斯，evg, oai等系列光刻机用曝光灯hbo系列，suss苏斯，evg, oai公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。
价 格：￥电议型 号：HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/D产 地：中国大陆
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URE-2000/34AL型紫外光刻机
ure-2000/34al型光刻机，曝光分辨率： 0.8μm-1μm ，套准精度：±0.8-1μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000/34AL型产 地：中国大陆
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NanoFrazor 3D瑞士纳米结构高速直写机机
瑞士nanofrazor 3d纳米结构高速直写机，源于发明stm和afm的ibm苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的新研究成果。nanofrazor纳米3d结构直写机第 一次将纳米尺度下的3d结构直写工艺快速化、稳定化。
价 格：￥电议型 号：NanoFrazor 3D产 地：欧洲
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M160中国nanoArch科研3D打印机
nanoarch科研3d打印机m160 ，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3d打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4d打印等方面。
价 格：￥电议型 号：M160产 地：中国大陆
