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SLI 670德国Sentech激光干涉仪
德国sentech激光干涉仪 sli 670，670 nm 波长，光斑尺寸 100 μm，电动载物台，反射率和干涉模式
价 格：￥电议型 号： SLI 670产 地：欧洲
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德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备
德国sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备,集群配置,所有等离子工具都可以排列在一个集群工具中。提供用于研发和高吞吐量生产的集群。通过单个晶圆装载锁和/或晶圆盒站装载晶圆。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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SI ADL LL/ SI PEALD LL德国Sentech 原子层沉积设备
德国sentech 原子层沉积设备 si adl ll/ si peald ll,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3d保形沉积, 400/500°c 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.
价 格：￥电议型 号： SI ADL LL/ SI PEALD LL产 地：欧洲
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SI ALD / SI PEALD德国Sentech 原子层沉积设备
德国sentech 原子层沉积设备 si adl ll/ si peald ll,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3d保形沉积, 400/500°c 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.
价 格：￥电议型 号：SI ALD / SI PEALD产 地：欧洲
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SI 500 D德国Sentech PECVD沉积设备
德国sentech pecvd沉积设备 si 500 d，最大 8 英寸晶圆，rt....300/400°c 基板温度
价 格：￥电议型 号：SI 500 D产 地：欧洲
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SI 500 PPD德国Sentech PECVD沉积设备
德国sentech pecvd沉积设备 si 500 ppd,最大 8 英寸晶圆, 高达 350°c 的基板温度, 低频混合，300-500 khz可选
价 格：￥电议型 号：SI 500 PPD产 地：欧洲
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Depolab 200德国Sentech PECVD沉积设备
德国sentech pecvd沉积设备 depolab 200， 最大 8 英寸晶圆，高达 400°c 的基板温度，低频混合，300-500 khz 可选
价 格：￥电议型 号：Depolab 200产 地：欧洲
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Etchlab 380德国Sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机
德国sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机 etchlab 380，最大 300 mm 晶圆，用于多个晶圆的 380 mm 载体
价 格：￥电议型 号：Etchlab 380产 地：欧洲
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Etchlab 200德国Sentech 反应离子刻蚀机
德国sentech 反应离子刻蚀机 etchlab 200，最大 8 英寸晶圆，硅及相关材料的蚀刻
价 格：￥电议型 号：Etchlab 200产 地：欧洲
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SI 500 C德国Sentech 低温等离子蚀刻机
德国sentech 低温等离子蚀刻机 si 500 c，最大 8 英寸晶圆，-150°c...+150°c
价 格：￥电议型 号：SI 500 C产 地：欧洲
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SI 500 RIE德国Sentech 等离子刻蚀机
德国sentech 等离子刻蚀机 si 500 rie，rie 蚀刻机，最大 8 英寸晶圆, 带可选的 icp 源扩展
价 格：￥电议型 号：SI 500 RIE产 地：欧洲
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SI 500-300德国 Sentech 多晶圆等离子刻蚀机
icp-rie plasma etcher - si 500-300 multiwafer si 500-300多晶圆等离子刻蚀机300 mm / 400 mm 载板，用于多片晶圆
价 格：￥电议型 号：SI 500-300产 地：欧洲
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SI 500德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500
德国sentech icp-rie等离子蚀刻机- si 500，8英寸的晶圆
价 格：￥电议型 号：SI 500产 地：中国大陆
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CS-200z日本Ulvac返回式真空溅射装置
返回式真空溅射装置 cs-200z，高真空交直流溅射设备.适用于金属、合金 、陶瓷材料的高品质溅射成膜.
价 格：￥电议型 号：CS-200z产 地：日本
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NIE-4000 ,NIR-4000 IBE/RIE离子束刻蚀系统
nie-4000 离子束刻蚀系统，nir-4000 ibe/rie 双刻蚀系统，通过加速的 ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。
价 格：￥电议型 号：NIE-4000 ,NIR-4000 IBE/RIE产 地：美洲
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OCS201C，OCS202C，OCS203C，OCS205C，OCS207C德国Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
德国sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统，包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
价 格：￥电议型 号：OCS201C，OCS202C，OCS203C，OCS205C，OCS207C产 地：欧洲
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Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统，sentech多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
