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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

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半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

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半导体辅助工艺/光刻胶

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化学开封机 / 激光开封机

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奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

德国YXLON 检测仪

  • URE-2000/34AL型紫外光刻机

    ure-2000/34al型光刻机,曝光分辨率: 0.8μm-1μm ,套准精度:±0.8-1μm

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/34AL型产 地:中国大陆

  • URE-2000/30 D多波段定制型紫外光刻机

    具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能

    价 格:¥ 490000型 号:URE-2000/30 D产 地:中国大陆

  • URE-2000/35A紫外单面光刻机

    ure-2000/35a 型紫外单面光刻机,,非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,全自动)和高校教学科研(可靠性好,演示方便)采用自动找平,具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能,自动分离对准间隙和消除曝光间隙,采用 350w 进口(德国)直流汞灯,可调节光的能量密度。设备外形美观精制,性能非常可靠,自动化程度很高,操作十分方便。

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/35A产 地:中国大陆

  • URE-2000/35紫外单面光刻机

    ure-2000/35 型紫外单面光刻机,非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动化程度高)和高校教学科研(可靠性好,演示方便)采用自动找平,具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能,自动分离对准间隙和消除曝光间隙,采用 350w 进口(德国)直流汞灯,可调节光的能量密度。设备外形美观精制,性能非常可靠,自动化程度很高,操作十分方便。

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/35产 地:中国大陆

  • URE-2000/35L紫外单面光刻机

    ure-2000/35l 型紫外单面光刻机,曝光面积:100mm×100mm;分辨力:1.0 μm(胶厚 2.0 μm 的正胶,365nm 波长)

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/35L产 地:中国大陆

  • URE-2000/17型紫外单面光刻机(台式)

    ure-2000/17 型紫外单面光刻机(台式),曝光面积:4 英寸,分辨力:1.5μm(胶厚 2 m 的正胶),对准精度:±1μm

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/17产 地:中国大陆

  • URE-2000/25型紫外单面光刻机

    ure-2000/25 型紫外单面光刻机,曝光面积:4 英寸,分辨力:1 μm(胶厚 2 μm的正胶),对准精度:± 0.8μm

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/25产 地:中国大陆

  • URE-2000S/25A紫外双面光刻机型紫外单面光刻机

    ure-2000s/25a 型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,分辨力:1 μm

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/25A产 地:中国大陆

  • URE-2000S/25 型紫外双面光刻机

    ure-2000s/25 型紫外双面光刻机,曝光面积:4 英寸,正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 ccd+显示器对准,光学合像,光学大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/25 型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/B型紫外双面光刻机

    ure-2000s/b 型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,对准精度:± 2μm (双面,片厚 0.8mm),± 0.8μm (单面)

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/B型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机

    ure-2000s/a8 型紫外双面光刻机, 曝光面积:8 英寸, 曝光波长:365nm: 15mw/cm,405nm:15-30mw/cm2, 对准精度:±2 μm (双面,片厚 0.8mm)±0.8 μm (单面)

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/A8 型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/25S 型双面光刻机

    ure-2000s/25s 型双面光刻机,曝光面积:4 英寸(或 6 英寸),正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 ccd+显示器对准,光学合像,光学大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/25S 型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机

    ure-2000s/35l(a)型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 ccd+显示器对准,光学合像,光学大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/35L(A)型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/35L(B)型双面光刻机

    ure-2000s/35l(b)型双面光刻机, 曝光面积:4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 ccd+显示器对准,光学合像,光学 大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/35L(B)型产 地:中国大陆

  • URE-2000/30 型紫外单面光刻机

    ure-2000/30 型紫外单面光刻机,高倍率双目双视场显微镜和 22 英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程,并提供 usb 输出;既满足高精度对准,又可用于检测曝光结果,且曝光结果和方便存储

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/30 型产 地:中国大陆

  • URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机

    ure-2000/35al 型紫外单面光刻机,曝光面积:150mm×150mm;分辨力:1.0μm(365nm 波长),对准精度:≤±0.8μm

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/35AL 型产 地:中国大陆

  • URE-2000/600 紫外单面光刻机

    ure-2000/600 紫外单面光刻机,光束口径: 650mm×650mm,对准精度: ±1.5μm

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • DS-2000/14K无掩膜单面光刻机

    ds-2000/14k 无掩膜单面光刻机,采用 dmd 作为数字掩模,像素数 1024×768,采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。

    价 格:¥电议型 号:DS-2000/14K产 地:中国大陆

  • DS-2000/14G型无掩模单面光刻机

    ds-2000/14g 型无掩模单面光刻机,采用 dmd 作为数字掩模,像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜成像,分辨力 1um。

    价 格:¥电议型 号:DS-2000/14G产 地:中国大陆

  • URE-2000 系列紫外单面光刻机

    ure-2000 系列紫外单面光刻机此系列包含六种型号:ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17

    价 格:¥电议型 号:URE-2000 系列产 地:中国大陆

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