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PlasmaPro 800 RIE英国Oxford 反应离子刻蚀机
plasmapro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（rie）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。
价 格：￥电议型 号：PlasmaPro 800 RIE产 地：欧洲
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PlasmaPro 80 RIE牛津等离子体刻蚀机
plasmapro 80 rie 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
价 格：￥电议型 号：PlasmaPro 80 RIE产 地：欧洲
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Plasma Stripper (Asher)等离子去胶机(灰化)
plasmapro 80 rie 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
价 格：￥电议型 号：Plasma Stripper (Asher)产 地：欧洲
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PlasmaPro 80 ICPCVD牛津ICP等离子沉积机
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等离子沉积机，是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
价 格：￥电议型 号：PlasmaPro 80 ICPCVD产 地：欧洲
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System 100牛津Oxford等离子刻蚀与沉积设备
牛津oxford system 100 等离子刻蚀与沉积设备,该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备,具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术.
价 格：￥ 4型 号：System 100产 地：欧洲
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PlasmaPro 80 ICP英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机
plasmapro 80 icp 英国牛津oxford 等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。
价 格：￥ 4型 号：PlasmaPro 80 ICP产 地：欧洲
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OpAL牛津开放式样品载入ALD设备
牛津opal开放式样品载入ald设备，紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ald）系统，opal提供了业的热ald设备，可以简单明了的升使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ald。
价 格：￥ 4型 号：OpAL产 地：欧洲
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Ionfab 300 IBE牛津离子束刻蚀机
已获得利的高速衬底架（高达1000rpm）设计，并配备了白光光学监视器（wlom）——更为准确的实时光学薄膜控制
价 格：￥ 7型 号：Ionfab 300 IBE产 地：欧洲
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PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蚀系统，旨在提供深硅蚀刻（dsie）域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（mems）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。
价 格：￥ 7型 号：PlasmaPro 100 Estrelas产 地：欧洲
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PlasmaPro 100 ALE牛津原子层刻蚀机
plasmapro 100 ale 牛津原子层刻蚀机，市场应用广，包括但不限于： mems和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
价 格：￥ 7型 号：PlasmaPro 100 ALE产 地：欧洲
