芬兰Picosun(第1页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

P-300S生产线型原子层沉积机

p-300s 生产线型原子层沉积机,最大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™ 300集群系统实现,尺寸：(w x h x d) 160 cm x 80 cm x 240 cm

价格：￥电议型号：P-300S产地：欧洲
P-300F,P-300BV生产型原子层沉积机

p-300f,p-300bv 生产型原子层沉积机，p-300f pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系统实现。p-300bv pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载，用真空批量load lock实现。

价格：￥电议型号：P-300F,P-300BV产地：欧洲
PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机

picosun p-200s pro ald 生产型原子层沉积机，衬底尺寸和类型：。50 – 200 mm /单片。156 mm x 156 mm 太阳能硅片。150 mm x 150 mm 显示面板

价格：￥电议型号：PICOSUN P-200S Pro ALD产地：欧洲
R-200 ALD高级型原子层沉积机

芬兰picosun™ r-200高级型 ald，衬底尺寸和类型：。50-200 mm /单片。156 mm x 156 mm太阳能硅片。3d复杂表面衬底。粉末与颗粒。roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm 。多孔，通孔，高深宽比（har）样品

价格：￥电议型号：R-200 ALD产地：欧洲
PICOSUN R-200标准型原子层沉积机ALD

picosun™ r-200标准型原子层沉积机，picosun™ r系列设备提供高质量ald薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。

价格：￥电议型号：PICOSUN R-200产地：欧洲
R-200 标准型芬兰 PICOSUN 原子层沉积机

芬兰 picosun r-200标准型ald,为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的picosun™ r系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。

价格：￥电议型号：R-200 标准型产地：欧洲
P-1000 Pro ALDPICOSUN 生产型原子层沉积机

德国 picosun p-1000 pro ald 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）,高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）,(w x h x d) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.

价格：￥电议型号：P-1000 Pro ALD产地：欧洲
P-300 Advanced ALD高级型原子层沉积机

picosun p-300 advanced ald 高级型原子层沉积机.156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背），高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）；roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm。全自动转载，用工业机器人实现,标准设备验收标准为 al2o3 工艺 .

价格：￥电议型号：P-300 Advanced ALD产地：欧洲
P-300B Advanced ALD高级原子沉积机

picosun p-300b advanced ald 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）,(w x h x d) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.

价格：￥电议型号：P-300B Advanced ALD产地：欧洲