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镀膜沉积机
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
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产品分类
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URE-2000S/25 型紫外双面光刻机
ure-2000s/25 型紫外双面光刻机，曝光面积：4 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/25 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/B型紫外双面光刻机
ure-2000s/b 型紫外双面光刻机,曝光面积：6 英寸，对准精度：± 2μm （双面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （单面）
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/B型产 地：中国大陆
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URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机
ure-2000s/a8 型紫外双面光刻机, 曝光面积：8 英寸, 曝光波长：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 对准精度：±2 μm （双面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （单面）
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/A8 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/25S 型双面光刻机
ure-2000s/25s 型双面光刻机，曝光面积：4 英寸（或 6 英寸），正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/25S 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/35L（A）型紫外双面光刻机
ure-2000s/35l（a）型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/35L（A）型产 地：中国大陆
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URE-2000S/35L（B）型双面光刻机
ure-2000s/35l（b）型双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学 大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/35L（B）型产 地：中国大陆
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URE-2000/30 型紫外单面光刻机
ure-2000/30 型紫外单面光刻机,高倍率双目双视场显微镜和 22 英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供 usb 输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储
价 格：￥电议型 号：URE-2000/30 型产 地：中国大陆
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URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机
ure-2000/35al 型紫外单面光刻机,曝光面积：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波长）,对准精度：≤±0.8μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35AL 型产 地：中国大陆
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DS-2000/14K无掩膜单面光刻机
ds-2000/14k 无掩膜单面光刻机，采用 dmd 作为数字掩模，像素数 1024×768，采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。
价 格：￥电议型 号：DS-2000/14K产 地：中国大陆
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DS-2000/14G型无掩模单面光刻机
ds-2000/14g 型无掩模单面光刻机,采用 dmd 作为数字掩模，像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜成像，分辨力 1um。
价 格：￥电议型 号：DS-2000/14G产 地：中国大陆
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URE-2000 系列紫外单面光刻机
ure-2000 系列紫外单面光刻机此系列包含六种型号：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
价 格：￥电议型 号：URE-2000 系列产 地：中国大陆
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URE-2000S 系列双面光刻机紫外双面光刻机
ure-2000s 系列双面光刻机，对准精度：±2 mm（双面,片厚 0.8mm），±0.8mm（单面）
价 格：￥电议型 号：URE-2000S 系列双面光刻机产 地：中国大陆
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P21百及纳米PancanNano电子束光刻机
新一代超高精度电子束光刻机 p21，样品尺寸覆盖 2/4/6 英寸晶圆，超高写场拼接精度，电子束闭环控制系统，束流的时间及空间稳定性高，高性能 30 kv 电子束光刻机。
价 格：￥电议型 号：P21产 地：欧洲
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Prexision-MMS瑞典Mycronic 掩膜计量系统
瑞典mycronic 掩膜计量系统prexision-mms*更佳的配准: 30%*更好地将掩膜套合到掩膜上: 20%*更短的周转时间: 30%· 新的创新性prexision平台具备优异的精准度与可重复性· 用我们的利技术改善配准测量。· 因为次测量的结果精确无误，这大大给您节省了周转时间。· 充分发挥我们的prexision光刻机的潜力。
价 格：￥电议型 号：Prexision-MMS产 地：欧洲
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DP10-OPO，DP10H-OPO，DP20H-OPO，DS10，DS20，DC150-OPO美国Photonics可调谐激光器
美photonics可调谐激光器dp10-opo，dp10h-opo，dp20h-opo，ds10，ds20，dc150-opo，可调谐的波长范围为 1.5 到 2.0um 以及 2.2 到 3.4um。
价 格：￥电议型 号：DP10-OPO，DP10H-OPO，DP20H-OPO，DS10，DS20，DC150-OPO产 地：美洲
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OAI 6000 FSA全自动上侧或后侧光刻机
oai 6000 fsa 全自动上侧或后侧光刻机,具有完全自动化的亚微米分辨率的顶侧或背侧对齐，提供无与伦比的性价比。
价 格：￥电议型 号：OAI 6000 FSA产 地：美洲
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AFM百及纳米ParcanNano原子力显微镜（快捷型）
百及纳米parcannano 高速原子力显微镜afm（快捷型），是公司开发的一款颠覆性的新型afm系统。它使用主动式智能针尖，集传感器、驱动器和可功能化的针尖于一身，实现自激发和自传感，无需复杂的激光校准，是取代现有afm激光传感的巨大改进。该系统可在大气、液态及真空环境下实现对微纳米结构的高速、高效表征，成像精度达到0.2纳米的限精度。
价 格：￥电议型 号：AFM产 地：欧洲
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P-SPL21百及纳米ParcanNano单探针电子束光刻机
parcannano单探针电子束光刻系统p-spl，扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米器件。该系统的闭环回路可实现使用同扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。
价 格：￥电议型 号：P-SPL21产 地：欧洲
