当前位置：阿仪网 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示
企业档案
会员类型：标准版
已获得阿仪网信誉 等级评定
(0 -40)基础信誉积累，可浏览访问
(41-90)良好信誉积累，可接洽商谈
(91+ )优质信誉积累，可持续信赖
阿仪网标准版会员：8年
工商认证 【已认证】
最后认证时间：
注册号： 【已认证】
法人代表： 【已认证】
参观次数：848592
手机网站：http://wap.app17.com/c143096/
公司网站：http://www.lxyee.net
光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 德国SUSS
- 美国Sonoplot
- 美国Photonics
- 美国OAI
- China
- 俄罗斯Optosystem
- 美国Coherrent
- 中科院
- 纳米压印机
- Elinoix 电子束光刻机
- 尼康Nikon光刻机
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 激光微加工设备
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 英国AML晶圆键合机
- 德国Raith 电子束光刻机
- 德 xiton 准分子激光器
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
- 英国HHV
- 英国Oxford
- 英国Denton
- 芬兰Picosun
- 美国Nano-master
- 法国Iplas
- 美国TED Pella
- 荷兰 TSST
- 美国Denton Vacuum
- 美Arradiance
- 法国Plassys
- 英国Oxford Vacuum
- 日立Hitachi
- 美国Neocera
- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- Syskey 镀膜系统
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率Ｘ射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
- 少子寿命测试仪
- 纳米压痕仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- XRD X射线衍射仪
- X 射线多晶衍射仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- 德国IPI 水汽分析系统
- 德国PVA TePla 超声波扫描显微镜
- 德国ThetaMetrisis膜厚测量仪
实验检测仪器
- PPMS 综合物性测量系统
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- 纽迈核磁共振分业析
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- 德国耐驰Netzsch
- 德国Moeller 测角仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 接触角测量仪
- 氟油检漏仪
- 光学式坐标测量仪
- 光功率计
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 纳米压痕仪
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 振动样品磁强计
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- 智能型氦液化器
- 美OAI 光功率计
- 英Glovebox 手套箱
- LakeShore 振动样品磁强计
- 德国Attocube 显微镜
- 粒子碰撞噪声检测仪
- Rion 液体光学颗粒度仪
- ADLEMA 检漏机
- 德YXLON CT检测
- 电子元器件水份分析仪
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 蓝星宇UV清洗机
- SAMCO紫外臭氧清洗机
太阳能检测仪
UV灯
日立Hitachi
半导体辅助工艺/光刻胶
光刻胶/硅片
化学开封机 / 激光开封机
日本Elionix
德国Lecia 切片掩膜一体机
尼康Nikon光刻机
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
日本理音Rion 微粒子计数器
德国Netzsch
德国YXLON 检测仪
已选条件
产品分类
-
EVG620奥地利EVG单双面光刻机(带有压印功能）
evg620 单面/双面光刻机(带有压印功能），evg620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。evg620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿
价 格：￥电议型 号：EVG620产 地：欧洲
-
-
ELS-F125日本Elionix微细加式电子束曝光电子束直写机
日本elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机els-f125，是elionix推出的上台加速电压达125kv的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。
价 格：￥电议型 号：ELS-F125产 地：日本
-
ELS-F150日本Elionix 超高精密电子束光刻系统
日本elionix 超高精密电子束光刻系统 els-f150, 是上第 个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米用于高研究的设备制造。
价 格：￥电议型 号：ELS-F150产 地：日本
-
-
μMLA海德堡桌面无掩模光刻机
日本电子 jsm-7610fplus，用于纳米科学的肖特基场发射扫描电子显微镜， 是款采用半浸没式物镜、拥有超高分辨率的场发射扫描电子显heidelberg 海德堡 μmla桌面无掩模光刻机
价 格：￥电议型 号：μMLA产 地：欧洲
-
DWL 66+德国海德堡 激光直写光刻机
dwl 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光
价 格：￥电议型 号：DWL 66+产 地：欧洲
-
MLA150德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机
德国海德堡 heidelberg 激光直写光刻机 mla150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高效数位光刻与灰度光刻.
价 格：￥电议型 号：MLA150产 地：欧洲
-
CL 7308俄罗斯Optosystems 准分子激光器
俄罗斯optosystems 准分子激光器：cl 7308型是血管内组织消融的理想选择，它主要特点是激光脉冲的脉冲持续时间长。
价 格：￥电议型 号：CL 7308产 地：欧洲
-
OAI 200美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统
美国 oai 光刻机 model 200 型桌面掩模对准器系统，完全手工操作，输出光谱范围:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm线，hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm
价 格：￥电议型 号：OAI 200产 地：美洲
-
Model 212美国OAI紫外光刻机
oai model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm
价 格：￥电议型 号：Model 212产 地：美洲
-
Model 800E美国OAI掩模对准系统
oai model 800e 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:hg灯:g(436nm),h(405nm)， i(365nm)和310nm线，hg-xe灯:260nm和220nm
价 格：￥电议型 号：Model 800E产 地：美洲
-
Model 6000美国OAI紫外光刻机
oai 掩膜光刻机 model 6000型，高吞吐量180 wph，灵活处理基板从2“平方到12”平方
价 格：￥电议型 号：Model 6000产 地：美洲
-
Model 6020S美国OAI紫外光刻机
oai的面板掩模光刻机 model 6020s, 用于foplp型号6020s -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm 晶圆尺寸的fo-plp加工.
价 格：￥电议型 号：Model 6020S产 地：美洲
-
URE-2000/35A紫外单面光刻机
ure-2000/35a 型紫外单面光刻机,,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350w 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35A产 地：中国大陆
-
URE-2000/35紫外单面光刻机
ure-2000/35 型紫外单面光刻机,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350w 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆
-
URE-2000/35L紫外单面光刻机
ure-2000/35l 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波长）
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35L产 地：中国大陆
-
URE-2000/17型紫外单面光刻机（台式）
ure-2000/17 型紫外单面光刻机（台式）,曝光面积：4 英寸,分辨力：1.5μm（胶厚 2 m 的正胶）,对准精度：±1μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000/17产 地：中国大陆
-
URE-2000/25型紫外单面光刻机
ure-2000/25 型紫外单面光刻机，曝光面积：4 英寸,分辨力：1 μm（胶厚 2 μm的正胶）,对准精度：± 0.8μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000/25产 地：中国大陆
-
URE-2000S/25A紫外双面光刻机型紫外单面光刻机
ure-2000s/25a 型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，分辨力：1 μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/25A产 地：中国大陆
