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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

尼康Nikon光刻机

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

德国YXLON 检测仪

  • 德国PVA TePla 超声波扫描显微镜 SAM 301

    德国pva tepla 超声波扫描显微镜 sam 301, 利用材料内部组织因密度不同而对超声波声阻抗、超声波吸收与反射程度产生差异的特点,从而实现对材料内部缺陷的定性分析,在半导体封装及材料等行业中得到广泛应用。可分辨出材料、元器件内部的裂纹、空洞、气泡、分层缺陷、杂质等;广泛用于测试各种元器件、smt焊接器件、igbt器件、mems器件、晶圆键合等内部缺陷的无损检测

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • 德国ThetaMetrisis膜厚测量仪 FR-ES

    fr-es 是一款轻巧便捷的膜厚测量分析系统, 能测量各种厚度范围的透明和半透明涂层以及薄金属层.fr-es 是 实验室里 的 理想 配置。fr-es 可以在各种光谱范围内执行反射率和透射率测量。

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • 德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪

    fr-mini 是一款紧凑型装置,专为大学教育和研究实验室设计,用于快速、准确和无损地表征各种不同的涂层。使用 fr-mini,用户还可以在较宽的光谱范围内轻松进行反射率和/或透射率测量。

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • 德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪

    fr-pro 膜厚测量仪 用于表征1nm-3mm厚度范围内的 涂层的模块化和可扩展平台。

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • 德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速薄膜厚度测绘

    fr-scanner 是一款紧凑的台式测量工具,全自动测绘涂层的厚度,基底适用于晶圆,掩膜版及其它材料。fr-scanner 可以快速和准确地测量薄膜特性,比如厚度,折射系数,均匀性,色度等,真空吸盘可应用于任何直径或其它形状的样品。

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • 激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统LAGM

    lagm激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统采用飞秒激光和电流计镜,可精确烧蚀 300 毫米晶圆样品,无需小型封闭腔室。系统配备双注射器模型 msag_ds,支持标准加入法进行定量分析,具备点和面倾斜度、轮廓及杂质分析功能。系统能全自动操作,支持多种分析模式如全扫描、斑点、直线、块模式及深度剖面模式,适用于晶圆和非晶圆样品的全 面分析。

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • 金属标准气雾剂生成系统 MSAG

    msag金属标准气雾剂生成系统,是一种用于纳米颗粒分析及直接气体分析的重要工具,尤其适用于电感耦合等离子体质谱法(icp-ms)。该设备能够以0至3μl/min的速度将混合金属标准溶液引入雾化器,确保了高灵敏度和准确性。通过msgg装置监测icp-ms灵敏度变化,并利用钼气态标准作为内标。

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • 连续化学品检测系统 CSI

    csi 连续化学品检测系统:化学敏感仪器监测半导体晶圆厂使用的化学物质,通过连续化学采样检测(csi)系统监测微量金属杂质,以避免器件故障。系统采用电感耦合等离子体质谱仪(icp-ms)对化学品进行24/7的连续监测,包括液相(lt)和气溶胶相(at)两种样品运输方式。l

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • 连续化学采样检测系统CSI

    化学分析实验室采用连续化学采样检测系统(csi)监测半导体工艺中的化学品,以检测微量金属杂质。该系统使用电感耦合等离子体质谱仪(icp-ms)进行24/7的连续监测,确保化学品在运输和更换过滤器过程中不受污染。在线接口软件(ois)控制阀门、自动进样器和icp-ms,实现自动校准和质量控制。该系统能够生成浓度和计数趋势图,并具备自动重新分析功能。

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • 气体电离探测器GED

    气体电离探测器(ged)是一种用于测量气体中金属颗粒浓度的技术,尤其适用于半导体行业中特殊气体的分析。该系统通过一个高效的膜来交换气体,使得样品气体中的金属颗粒能在无需预处理的情况下直接引入到电感耦合等离子体质谱仪(icp-ms)中进行高灵敏度分析。

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • 自动化标准添加系统 ASAS II

    asas ii自动化标准添加系统通过自动制备校准标准溶液,提升了电感耦合等离子体(icp)分析的效率与精度。该系统采用非接触式光流传感器和高精度注射泵,实现微量标准溶液的精 准添加。其无阀门设计及全氟聚合物材质确保了系统的高效与耐用性。

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • 自动进样稀释模块ASDM

    自动进样稀释模块asdm专为icp自动进样器设计,支持2至1000倍的样品溶液稀释,配备两种型号以适应不同溶液类型。该模块可自动添加标准溶液,并能同时清洗稀释探头及准备下一个稀释样品。asdm提供10ml注射器进行2-20倍稀释,或两支注射器进行50-1000倍稀释。

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • GIA 522气泡分析系统

    gia 522气泡分析系统,用于分析玻璃、陶瓷、矿物或小型密封电子元件中的小到极小气泡夹杂物。

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • EDA 407 水汽分析仪

    eda 407专为光电子器件的质量控制而设计■ 从密封封装中进行精确气体分析■ 气体成分的直观分析■ 简明易用的软件套件■ 全自动化的气体进样系统

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • 硅片金属杂质分析系统 Expert

    硅片金属杂质分析系统 expert,全自动汽车扫描系统与真空二次离子质谱法(vpd-icp-ms)结合,为硅片金属杂质分析提供了高效的解决方案。系统具备多个型号,包括适用于实验室和工厂自动化的expert_lab、expert_ps和expert_fab。这些系统支持多种扫描模式,如全扫描、径向扫描和倾斜扫描,可实现从大容量蚀刻到深度轮廓测量的全 面分析。

    价 格:¥电议型 号:产 地:日本

  • WaferX 310Rigaku X射线荧光分析仪

    日本rigaku x射线荧光分析仪 waferx 310, 通过x射线以大角度照射在镀膜的硅片样品上,产生镀膜 样品的相应特征x射线的方法,进而分析测量硅片样品的 镀膜厚度。

    价 格:¥电议型 号:WaferX 310产 地:日本

  • HMS-5300LTH韩国Ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪

    韩国ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪 hms-5300lth,温度范围:80k-573k,测量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半导体薄膜(p 型和 n 型);

    价 格:¥电议型 号:HMS-5300LTH产 地:其它

  • InSEM HT美国KLA 原位高温纳米力学测试系统,纳米压痕仪

    美国kla insem ht原位高温纳米力学测试系统,纳米压痕仪,样品加温可达800 ℃,样品尺寸可达10mm,装样系统与真空环境兼容

    价 格:¥电议型 号:InSEM HT产 地:美洲

  • HMS-5000/HMS-5500全自动变温霍尔效应测试仪

    型号:hms-5000 / hms-5500生产商:ecopia corp.(80k-350k,常温-773k)

    价 格:¥电议型 号:HMS-5000/HMS-5500产 地:其它

  • FF35 CT德国YXLON多用途高分辨率CT系统

    德国yxlon多用途高分辨率ct系统ff35 ct,微焦点、纳米焦点双射线 源配置,大限度提高多 功能性 • 单或双射线源配置,可大限度提高 ct 应用 多功能性

    价 格:¥电议型 号:FF35 CT产 地:欧洲

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