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深圳市矢量科学仪器有限公司

第5年

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当前位置:阿仪网   >  深圳市矢量科学仪器有限公司   >   产品配件展示

  • 离子束沉积设备
    离子束沉积设备
    型号:NEXUS IBD   参考价:¥咨询
    适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积数据存储制造商可以借助 veeco 的第三代 nexus? 离子束沉积 (ibd) 系统大幅提高 80gb/in2 传感器的产量,并满足未来 tf..
    所在地:美洲    发布时间:2024/8/13
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  • 紫外臭氧清洗机
    紫外臭氧清洗机
    型号:UC100-SE   参考价:¥咨询
    这款紫外臭氧清洗机,集成嵌入式控制系统,人性化设计,便捷高效,质量有保障,业服务,是科研与实验的理想伙伴。
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 清洗设备
    清洗设备
    型号:ASx系列   参考价:¥咨询
    suss microtecs asx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了先进的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能够满足无损加工掩模的要求,用..
    所在地:欧洲    发布时间:2024/8/13
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  • 小巧型匀胶机
    小巧型匀胶机
    型号:EZ4-S   参考价:¥咨询
    ez4-s-pp小巧型匀胶机,小巧耐腐蚀,适用于手套箱内,液晶显示,程序可调,支持4寸底物,铝合金/pp外壳可选。
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 程控伺服匀胶机
    程控伺服匀胶机
    型号:AC200-SE标准型   参考价:¥咨询
    ac200-se程控伺服匀胶机,高精度伺服驱动,plc智能控制,7寸触屏操作,耐溶剂材质,适用于多种工业应用。
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 投影扫描光刻机
    投影扫描光刻机
    型号:DSC300   参考价:¥咨询
    suss microtec公司推出了其下一代投影扫描光刻机‐dsc300投影扫描光刻机。这种有的扫描光刻平台拥有三位数的产能,并达到解析度(< 2 μm)的分辨率,是1x投影光刻系统中生产..
    所在地:欧洲    发布时间:2024/8/13
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  • 离子束沉积设备
    离子束沉积设备
    型号:NEXUS IBD-LDD   参考价:¥咨询
    光掩模制造需要高水平的颗粒控制,同时沉积复杂的多层薄膜结构。veeco 的 nexus ibd-ldd 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来,veeco 已成功服务于光掩..
    所在地:美洲    发布时间:2024/8/13
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  • 程控伺服匀胶机
    程控伺服匀胶机
    型号:AC200-S-PP   参考价:¥咨询
    ac200-s-pp匀胶机,伺服驱动,plc控制,7寸触屏,真空可调,支持加热,工业应用,处理基片能力强。概述了ac200-s-pp程控伺服匀胶机的核心特性与优势。
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
    高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
    型号:EB900   参考价:¥咨询
    产品概述:系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成,体现立方整体外观,适用于超净间间壁..
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 控温型匀胶机
    控温型匀胶机
    型号:IC8000-S   参考价:¥咨询
    控温型匀胶机,性能优秀,业服务,高品质材料,安全设计,桌面实验理想选择,为科学仪器域的优选产品
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 条形等离子清洁系统
    条形等离子清洁系统
    型号:80 Plus   参考价:¥咨询
    80 plus 条形等离子清洁系统为半导体加工而开发,可支持手动及自动操作,两种操作方式均简单易用。该系统可以配备或不配备装卸站;此外,每个装卸站都可支持不同的配置。即便没有装卸站,也可将..
    所在地:美洲    发布时间:2024/8/13
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  • 程控烤胶机
    程控烤胶机
    型号:HP100-SE标准型   参考价:¥咨询
    lebo science hp100-se程控烤胶机,7寸触屏plc控,硬质阳氧化铝面板,优异性能,业服务,实验理想之选。
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 投影步进式光刻机
    投影步进式光刻机
    型号:AP200/300   参考价:¥咨询
    ap200/300 系列光刻系统基于 veeco 的可定制 unity 平台™构建,可提供卓越的覆盖层、分辨率和侧壁轮廓性能,并可实现高度自动化和具有成本效益的制造。这些系统特..
    所在地:美洲    发布时间:2024/8/13
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  • 精密型烤胶机
    精密型烤胶机
    型号:HP6   参考价:¥咨询
    hp6精密型烤胶机,全铝机身,高精度控温,独立电路,真空吸附,数显温控,可选线性控温,小巧便携,适合手套箱使用。
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 高温型烤胶机
    高温型烤胶机
    型号:HP100-HT-CTM   参考价:¥咨询
    hp100-ht-ctm高温型烤胶机,不锈钢镀陶瓷加热,触屏控温,独立电路,隔热设计,安全耐用,高温均匀,适合精密实验。
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 大气式等离子清洁系统
    大气式等离子清洁系统
    型号:PlasmaPen™   参考价:¥咨询
    plasmapen™ 是pva tepla的大气式等离子清洁系统,可满足各种表面处理要求,如表面清洁及表面活化。
    所在地:美洲    发布时间:2024/8/13
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  • 手动光刻机
    手动光刻机
    型号:MS6-CA   参考价:¥咨询
    ms6-ca手动光刻机是一款高性能的精密加工设备,为微电子、半导体、光电等域的研发与生产设计
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • 全封闭式桌面显影机
    全封闭式桌面显影机
    型号:DM200-SE   参考价:¥咨询
    钙钛矿用涂膜机,配备4.3寸全彩触屏,操作便捷。采用硬质阳氧化铝面板,带真空吸附,确保涂膜稳定。精准控制移动速率,提高涂膜重复性。可选配多种涂膜工具,适应不同需求。风刀角度与高度可调,工艺..
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • CMP后清洗机
    CMP后清洗机
    型号:TSC-100/300S/200L   参考价:¥咨询
    该系列设备是晶圆cmp后的用清洗设备,有单工位、转位式、连线式等不同结构,以适用不同应用场景,其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、n2吹干、高速甩干..
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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  • CMP后清洗机
    CMP后清洗机
    型号:TSC-150C/200C   参考价:¥咨询
    该系列设备是碳化硅晶圆抛光后的用清洗设备,采用连线式结构,设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、n2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面积小,湿进干出,适用于碳..
    所在地:中国大陆    发布时间:2024/8/13
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