1.产品概述：

掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自动处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准，它是应对 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和纳米压印光刻 (NIL)高要求的创新解决方案。以创新技术大限度地提高光掩模性能。

2.配置：

MaskTrack Pro 烘烤和显影系统是 SUSS MicroTecs 下一代光刻技术掩模产品线的一部分。为亚32 nm 技术节点而设计，平台能够在制造掩模时完成高度复杂的工艺步骤。

Mask Track Pro 提供一个特殊的无硫自动光掩模清洗配置选项。背面清洁系统提供工厂使用的光掩模特殊清洁解决方案，其中不仅定期清除背面污垢，还必须除去正面的潮湿斑点。此系统还适用于清洁小批量的光掩模坯件以及用于研究。

MaskTrack Pro 提供的物理和化学清洗法组合。能够有效地清除颗粒和有机及无机污物。此外，智能清洗过程和各种表面处理方法确保技术节点掩模的完整性低于 1x nm Half-Pitch。MaskTrack Pro 向后兼容至 90 nm Half-Pitch。创新的平台方案提供一个群集解决方案连同 MaskTrack Pro InSync 系统、掩模背面粒子探测以及 EUV 内光罩库。因此，平台保证了掩模全面管理方法，这对 EUVL 基础设施十分重要。

3.产品优势：

MaskTrack Pro 允许用第三方的产品扩展工具集群，并提供一个全面的方法。

缩短货期时间

延长掩模的寿命

提高扫描仪的运行时间

降低运行成本