1. 产品概述

Satur系列 多片式MOCVD系统，优异的均匀性、一致性、稳定性控制，MOCVD 即金属有机物化学气相沉积，是一种用于生长化合物半导体薄膜的技术。它通过将Ⅲ族元素的有机化合物和氨气或氧气等作为晶体生长源材料，以热分解反应方式在衬底上进行气相外延，生长各种化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。

2. 设备用途/原理

Satur系列 多片式MOCVD系统，优异的均匀性、一致性、稳定性控制，盒对盒全自动传输系统，先进的实时监控系统，友好界面与配方编辑功能，满足 SEMI S2 安全标准。

3. 设备特点

晶圆尺寸 4、6、8 英寸，沉积材料 氮化镓、砷化镓、磷化铟。适用材料 硅、碳化硅、氧化铝、砷化镓、磷化铟。适用域 科研、集成电路、化合物半导体。