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深圳市矢量科学仪器有限公司

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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon EX14C   参考价：￥咨询
    nikon ex14cnikon ex14c步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.25µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
    所在地：日本    发布时间：2024/5/23
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon EX12B   参考价：￥咨询
    nikon ex12bnikon ex12b步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.3µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域
    所在地：日本    发布时间：2024/5/23
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon SF120/130   参考价：￥咨询
    nikon sf120/130nikon sf120/130步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.28µm主要用于6寸、8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/23
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon NSR 2205i14E   参考价：￥咨询
    nikon nsr 2205i14enikon nsr 2205i14e步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.35µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线，广泛应用于化合物..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/23
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  • Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机
    Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机
    型号：Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机   参考价：￥咨询
    nikon nsr 2205i12dnikon nsr 2205i12d步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.4µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/22
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon NSR 2205i11D   参考价：￥咨询
    nikon nsr 2205i11dnikon nsr 2205i11d步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.4µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/22
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon NSR 2005i10C   参考价：￥咨询
    nikon nsr 2005i10cnikon nsr 2005i10c步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.45µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/22
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon NSR 2005i9C   参考价：￥咨询
    nikon nsr 2005i9cnikon nsr 2005i9c步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.45µm用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导体、m..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/22
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon NSR 2005i8A   参考价：￥咨询
    nikon nsr 2005i8anikon nsr 2005i8a步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.5µm主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导体、..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/22
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  • 步进式光刻机
    步进式光刻机
    型号：Nikon NSR 1755/1505i7A/B   参考价：￥咨询
    nikon nsr 1755/1505i7a/bnikon nsr 1755/1505i7a/b步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.6µm主要用于2寸、4寸、6寸生产线广..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/22
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  • G线光刻机
    G线光刻机
    型号：Nikon NSR   参考价：￥咨询
    nikon nsr g线光刻机nikon nsr g线步进式光刻机光源波长436nm分辨率优于0.65µm主要用于2寸、4寸、6寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等..
    所在地：日本    发布时间：2024/5/22
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  • 金属3D打印机
    金属3D打印机
    型号：SLM600   参考价：￥咨询
    slm600 • 外形尺寸(w×d×h)：4500x2000x3200mm• 成型尺寸(w×d×h)：600×600×450mm（含成型基板厚度）
    所在地：中国大陆    发布时间：2024/4/17
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  • 金属3D打印机
    金属3D打印机
    型号：SLM450   参考价：￥咨询
    slm450• 外形尺寸(w × d × h)： 3950x3300x2700 mm• 成型尺寸(w × d × h)：450 ×400 ×800 mm（不
    所在地：中国大陆    发布时间：2024/4/17
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  • 金属3D打印机
    金属3D打印机
    型号：SLM250   参考价：￥咨询
    slm250• 外形尺寸(w × d × h):1940x1300x2000 mm• 成型尺寸(w × d × h):250 × 250 × 300 mm（
    所在地：中国大陆    发布时间：2024/4/17
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  • 金属3D打印机
    金属3D打印机
    型号：SLM120   参考价：￥咨询
    聚焦光斑40μm高精度型slm120• 外形尺寸(w × d × h):1100 ×890 × 1930mm• 成型尺寸(w × d × h):120
    所在地：中国大陆    发布时间：2024/4/17
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  • 化学机械磨抛机
    化学机械磨抛机
    型号：SL-1023   参考价：￥咨询
    sl-1023化学机械磨抛机，适用于 cmp 平坦化和平滑化工艺技术， 整机研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀，配置自动滴料器和精密磨抛控制仪，全自动触摸屏面板，从加工性能和速度上同时满足晶..
    所在地：中国大陆    发布时间：2024/4/16
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  • 原子层沉积ALD
    原子层沉积ALD
    型号：TFS 200   参考价：￥咨询
    tfs 200 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ald 平台。 tfs 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至低而特别设计的。
    所在地：欧洲    发布时间：2023/10/31
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  • 高真空互联物理气相薄膜沉积系统
    高真空互联物理气相薄膜沉积系统
    型号：customized   参考价：￥咨询
    概述：沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业好的软件控制系统；4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±2.5%，8英寸镀..
    所在地：中国大陆    发布时间：2023/10/13
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  • Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统
    Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统
    型号：customized   参考价：￥咨询
    1.方案是适用于大 8 吋晶圆的多腔等离子体沉积/刻蚀工艺系统2.系统可用于研发和小批量生产3.系统兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圆和不规则碎片；不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔..
    所在地：中国大陆    发布时间：2023/10/13
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  • Plasma Etching Cluster 多腔等离子体刻蚀系统
    Plasma Etching Cluster 多腔等离子体刻蚀系统
    型号：customized   参考价：￥咨询
    1.方案是适用于大 8 吋晶圆的多腔等离子体刻蚀工艺系统；2.系统可用于研发和小批量生产；3.系统兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圆和不规则碎片；不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔的..
    所在地：中国大陆    发布时间：2023/10/12
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