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大功率可编程直流电子负载
型号：S860 参考价：￥咨询

s860系列大功率直流可编程电子负载，具有功率密度高、带载范围广、动态响应快、测试功能丰富、可靠性高等优点。s860主要是供伺服器电源、a/d电源供应器、功率电子元件、动力电池、铅蓄电池、..

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/4
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多通道电源/电池模拟器
型号：H654系列参考价：￥咨询

h654系列多通道电源/电池模拟器是一款高精度、多通道、双象限可编程电池模拟器。模拟器电流可充可放，不仅可满足bms测试需求，还可满足消费类电子产品ate测试。单机16或者8通道，各通道间..

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/4
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多通道双象限电池模拟器
型号：H655系列参考价：￥咨询

h655系列电池模拟器是一款高精度、多通道、双象限可编程电池模拟器。模拟器电流可充可放，支持多种故障模拟，不仅可满足bms测试需求，还可满足消费类电子产品ate测试。单机8通道，各通道间电..

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/4
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可编程高压直流电源
型号：H610系列参考价：￥咨询

h610系列可编程高压直流电源是一款高精度、高压、小电流线性高压直流电源。输出电压1kv-10kv，输出电流可调，具有恒压、恒流输出模式。电源采用dsp数字控制技术，具备智能化面板操作屏，..

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/4
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可编程直流电源
型号：H180系列参考价：￥咨询

本系列可编程直流开关电源，电压范围从0v～1500v，单机电流可达12000a，单机大功率为600kw。大电流工作时依然保持0.1%的控制及测量精确度，为电机、传感器、半导体加热、超导材料..

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/4
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大功率可编程直流电源
型号：H680系列参考价：￥咨询

h680系列直流可编程开关电源，具有大功率、大电流、低纹波噪声、快速瞬态响应、分辨率高、精度高等优点。电压范围由10v到1500v。电流范围由10a到1200a，低压大电流（30v以下）的..

所在地：中国大陆发布时间：2024/6/4
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解键合机
型号：LD12 参考价：￥咨询

ld12解键合机，ld12 去键合模块进一步补充了 suss microtec 公司基于激光的晶片处理产品组合。其基本原理是使用高能量密度和低脉冲持续时间的准分子激光器，在室温下解除晶圆与..

所在地：欧洲发布时间：2024/5/23
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BA Gen4系列键合对准机
型号：BA Gen4 Series 参考价：￥咨询

ba gen4系列键合对准机在键合过程中精确对准，键合对准器 ba gen4 series 是为手动对准并键合两个 200 毫米以下晶圆而设计的。选配掩模对准器工具后还可使用各种功能。ba..

所在地：欧洲发布时间：2024/5/23
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临时胶合剂
型号：XBS300 参考价：￥咨询

xbs300临时胶合剂适用于大批量生产的通用型临时键合机，suss microtec的xbs300临时键合平台是新一代用于大批量生产的临时键合机解决方案。200/300毫米晶圆键合平台可以..

所在地：欧洲发布时间：2024/5/23
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晶圆键合机
型号：XBC300 Gen2 D2W/W2W 参考价：￥咨询

xbc300 gen2 d2w/w2w全球创基于200mm和300mm衬底的混合键合一体设备，新型的 xbc300 gen2 d2w/w2w 设备是上唯一将所有现有混合键合工艺集成到单一设..

所在地：欧洲发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Canon FPA5000 ES4 参考价：￥咨询

canon fpa5000 es4扫描式光刻机，光源波长248nm，分辨率优于0.13µm，用于6寸、8寸及12寸生产线，广泛应用于化合物半导体、mems、led等域。

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Canon FPA5000 ES3 参考价：￥咨询

canon fpa5000 es3扫描式光刻机，主要用于6寸、8寸及12寸生产线，广泛应用于化合物半导体、mems、led等域。

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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步进式光刻机
型号：Canon FPA3000 EX4 参考价：￥咨询

canon fpa3000 ex4canon fpa3000 ex4步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.25µm主要用于主要用于4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导..

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Nikon S308F 参考价：￥咨询

nikon s308fnikon s308f扫描式光刻机光源波长193nm分辨率优于0.07µm主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Nikon S208D 参考价：￥咨询

nikon s208dnikon s208d扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.11µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Nikon S207D 参考价：￥咨询

nikon s207dnikon s207d扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.11µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Nikon S206D 参考价：￥咨询

nikon s206dnikon s206d扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.12µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Nikon S205C 参考价：￥咨询

nikon s205cnikon s205c扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.15µm主要用于8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Nikon S204B 参考价：￥咨询

nikon s204bnikon s204b扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.18µm主要用于4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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扫描式光刻机
型号：Nikon S203B 参考价：￥咨询

nikon s203bnikon s203b扫描式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.2µm主要用于4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、mems、led等域

所在地：日本发布时间：2024/5/23
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