物理气相沉积PVD适用范围有哪些？

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灵活的沉积平台服务于广泛的应用

Veeco 的单靶点 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了大的灵活性。NEXUS PVD 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉积模式。

• 无与伦比的可靠性和均匀性有助于提高工艺产量

• 更高的吞吐量和正常运行时间，降低拥有成本

• NEXUS平台集成了广泛的Veeco技术，如离子束沉积、离子束蚀刻和原子层沉积

  灵活的沉积平台服务于广泛的应用

  Veeco 的单靶点 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了大的灵活性。NEXUS PVD 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉积模式。

• 无与伦比的可靠性和均匀性有助于提高工艺产量

• 更高的吞吐量和正常运行时间，降低拥有成本

• NEXUS平台集成了广泛的Veeco技术，如离子束沉积、离子束蚀刻和原子层沉积

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• 更高的吞吐量和正常运行时间，降低拥有成本

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  灵活的沉积平台服务于广泛的应用

  Veeco 的单靶点 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了大的灵活性。NEXUS PVD 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉积模式。

原创作者：深圳市矢量科学仪器有限公司