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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机MLA150

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title型号:MLA150原产地:欧洲 更新时间:2026/10/19 9:27:15

产品摘要:德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高效数位光刻与灰度光刻.
店铺主推品 热销潜力款

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产品完善度: 访问次数:1910

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

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半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

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半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

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公司网站:http://www.lxyee.net

详细内容

德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150

德国高精密激光直写绘图机
非接触式曝光
可支持高效数位光刻与灰度光刻


MLA150为便于操作而设计,涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能,由于MLA150曝光是非接触式的,因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。

与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用,还有快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm²的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头,可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位,套刻对准精度优于500nm。

MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能,可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等域的工作效率。

功能

基板到9 x 9”

标准版:1µm结构

高分辨率版本:结构可达600纳米

暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)

非接触式曝光

光源为405 nm和375 nm

基于SLM光引擎

多种数据输入格式

校准精度为500纳米

背面对齐

实时自动对焦

抵制数据库

自动标记和序列化

热门标签:德国海德堡,Heidelberg,激光直写光刻机,MLA150

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