型紫外单面光刻机(台式)URE-2000/17
光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 德国SUSS
- 美国Sonoplot
- 美国Photonics
- 美国OAI
- China
- 俄罗斯Optosystem
- 美国Coherrent
- 中科院
- 纳米压印机
- Elinoix 电子束光刻机
- 尼康Nikon光刻机
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 激光微加工设备
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 英国AML晶圆键合机
- 德国Raith 电子束光刻机
- 德 xiton 准分子激光器
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
- 英国HHV
- 英国Oxford
- 英国Denton
- 芬兰Picosun
- 美国Nano-master
- 法国Iplas
- 美国TED Pella
- 荷兰 TSST
- 美国Denton Vacuum
- 美Arradiance
- 法国Plassys
- 英国Oxford Vacuum
- 日立Hitachi
- 美国Neocera
- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- Syskey 镀膜系统
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率X射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
- 少子寿命测试仪
- 纳米压痕仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- XRD X射线衍射仪
- X 射线多晶衍射仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- 德国IPI 水汽分析系统
- 德国PVA TePla 超声波扫描显微镜
- 德国ThetaMetrisis膜厚测量仪
实验检测仪器
- PPMS 综合物性测量系统
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- 纽迈核磁共振分业析
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- 德国耐驰Netzsch
- 德国Moeller 测角仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 接触角测量仪
- 氟油检漏仪
- 光学式坐标测量仪
- 光功率计
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 纳米压痕仪
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 振动样品磁强计
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- 智能型氦液化器
- 美OAI 光功率计
- 英Glovebox 手套箱
- LakeShore 振动样品磁强计
- 德国Attocube 显微镜
- 粒子碰撞噪声检测仪
- Rion 液体光学颗粒度仪
- ADLEMA 检漏机
- 德YXLON CT检测
- 电子元器件水份分析仪
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 蓝星宇UV清洗机
- SAMCO紫外臭氧清洗机
太阳能检测仪
UV灯
日立Hitachi
半导体辅助工艺/光刻胶
光刻胶/硅片
化学开封机 / 激光开封机
日本Elionix
德国Lecia 切片掩膜一体机
尼康Nikon光刻机
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
日本理音Rion 微粒子计数器
德国Netzsch
德国YXLON 检测仪
企业档案
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详细内容
URE-2000/17 型紫外单面光刻机(台式)
技术参数
。曝光面积:4 英寸
。曝光波长:365nm
。分辨力:1.5μm(胶厚 2 m 的正胶)
。对准精度:±1μm
。掩模样片整体运动范围:X:15mm;Y:15mm
。掩模尺寸:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸
。样片尺寸:直径 Ф 15mm-- Ф 100mm,厚度 0.1mm--6mm(可扩展为 15mm)
。曝光方式:定时(倒计时方式)和定剂量
。照明不均匀性: 5%(Ф 100mm 范围)
。双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学最大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍
物镜三对:4 倍、10 倍、20 倍
目镜三对:10 倍、16 倍、20 倍
。掩模相对于样片运动行程:
X: ±5mm; Y: ±5mm; Thelta: ±6 度
。汞灯功率:200W(直流)
。曝光能量密度:6mW/cm
2.外形尺寸:650mm(长)x600mm(宽) x900mm(高)36
3.配置
(1)曝光头
。200W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)
。XYZ 汞灯调节台
。光学系统
。冷却风扇
(2)对准工件台
。掩模样片整体运动台
。掩模样片相对运动台
。转动台
。样片调平机构,手动
。样片调焦机构,手动
。承片台 3 个(Ф 50mm 、Ø75mm 、 Ø100mm )
。掩模夹 4 个(2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸)
。掩模抽拉式上下机构
(3)对准显微镜
。光源(配备品 2 只)、电源
。双目双视场对准显微镜主体
。目镜 3 对(10 倍、16 倍、20 倍,共 6 个)
。物镜 3 对(4 倍、10 倍、20 倍,共 6 个)
。CCD(台湾)
。21 寸液晶显示器
(4)电控系统
。汞灯触发电源(200W 直流汞灯)
。单片机控制系统
。控制机箱
(5)气动系统
。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等
。电磁阀驱动
。气动仪表
(6)其他附件
。真空泵一台
。管道
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