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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品：光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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光刻机&3D打印机

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半导体微纳检测仪器

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奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

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  • JEM-1400Flash透射电子显微镜

    产品介绍：jem-1400flash 配备了高灵敏度scmos相机、超广视野的蒙太奇系统以及光学显微镜图像的联动功能，是一款新型的高通量、高分辨率 的120kv透射电子显微镜。

    价 格：￥电议型 号：JEM-1400Flash产 地：日本

  • JEM-Z200FSC场发射冷冻电子显微镜

    产品介绍：场发射冷冻电子显微镜 jem-z200fsc cryo arm 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。

    价 格：￥电议型 号：JEM-Z200FSC产 地：日本

  • JEM-Z300FSC场发射冷冻电子显微镜

    产品介绍：jem-z300fsc 场发射冷冻电子显微镜，配备了冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器(ω能量过滤器)、侧插式液氮冷却样品台和自动样品交换系统，能够在冷冻低温下观察生物大分子。样品交换系统内多可以存储12个样品，可以任意取出和交换一个或数个样品，能灵活地进行测试排序。

    价 格：￥电议型 号：JEM-Z300FSC产 地：日本

  • JEM-ARM200F NEOARM原子分辨率透射电子显微镜

    产品介绍：jem-arm200f neoarm 原子分辨率透射电子显微镜，标配了日本电子独自开发的冷场发射电子枪（cold-feg）和全新的高阶球差校正器（ascor）。无论是在200kv的高加速电压还是在30kv的低加速电压下，均能实现原子分辨率的观察与分析。同时还配备了自动像差校正系统，可以自动进行快速准确的像差校正。

    价 格：￥电议型 号：JEM-ARM200F NEOARM产 地：日本

  • PICOSUN R-200标准型原子层沉积机ALD

    产品介绍： picosun™ r-200标准型原子层沉积机，picosun™ r系列设备提供高质量ald薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。 我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。

    价 格：￥电议型 号：PICOSUN R-200产 地：欧洲

  • R-200 ALD高级型原子层沉积机

    产品介绍：芬兰picosun™ r-200高级型 ald，衬底尺寸和类型 ： 。50-200 mm /单片 。156 mm x 156 mm太阳能硅片 。3d复杂表面衬底 。粉末与颗粒 。roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm 。多孔，通孔，高深宽比（har）样品

    价 格：￥电议型 号：R-200 ALD产 地：欧洲

  • PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机

    产品介绍：picosun p-200s pro ald 生产型原子层沉积机 ，衬底尺寸和类型： 。50 – 200 mm /单片 。156 mm x 156 mm 太阳能硅片 。150 mm x 150 mm 显示面板

    价 格：￥电议型 号：PICOSUN P-200S Pro ALD产 地：欧洲

  • P-300F,P-300BV生产型原子层沉积机

    产品介绍：p-300f,p-300bv 生产型原子层沉积机，p-300f pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系统实现。p-300bv pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载，用真空批量load lock实现。

    价 格：￥电议型 号：P-300F,P-300BV产 地：欧洲

  • P-300S生产线型原子层沉积机

    产品介绍：p-300s 生产线型原子层沉积机,最大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™ 300集群系统实现,尺寸：(w x h x d) 160 cm x 80 cm x 240 cm

    价 格：￥电议型 号：P-300S产 地：欧洲

  • P-300B Advanced ALD高级原子沉积机

    产品介绍：picosun p-300b advanced ald 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）,(w x h x d) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.

    价 格：￥电议型 号：P-300B Advanced ALD产 地：欧洲

  • P-300 Advanced ALD高级型原子层沉积机

    产品介绍：picosun p-300 advanced ald 高级型原子层沉积机.156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背），高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）；roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm。全自动转载，用工业机器人实现,标准设备验收标准为 al2o3 工艺 .

    价 格：￥电议型 号：P-300 Advanced ALD产 地：欧洲

  • P-1000 Pro ALDPICOSUN 生产型原子层沉积机

    产品介绍：德国 picosun p-1000 pro ald 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）,高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）,(w x h x d) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.

    价 格：￥电议型 号：P-1000 Pro ALD产 地：欧洲

  • R-200 标准型芬兰 PICOSUN 原子层沉积机

    产品介绍：芬兰 picosun r-200标准型ald,为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。 在最基本的picosun™ r系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。

    价 格：￥电议型 号：R-200 标准型产 地：欧洲

  • URE-2000/35紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000/35 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：4 英寸 ，非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研 （可靠性好，演示方便） 。

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆

  • URE-2000B紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000b 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：100mmx100mm

    价 格：￥电议型 号：URE-2000B产 地：中国大陆

  • URE-2000A紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000a 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：150mmx150mm

    价 格：￥电议型 号：URE-2000A产 地：中国大陆

  • URE-2000/A8紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000/a8 紫外单面光刻机，中科院设计生产。曝光面积： 200mm×200mm

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/A8产 地：中国大陆

  • URE-2000/A12紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000系列紫外单面光刻机，主要型号有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中国科学院制造生产。

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/A12产 地：中国大陆

  • SI 500德国 Sentech 等离子体 ICP 干法刻蚀机

    产品介绍：sentech si 500 电感耦合等离子体icp干法刻蚀系统，感应耦合等离子刻蚀机台，低损伤纳米结构刻蚀，高速率刻蚀，内置icp等离子源，动态温控。

    价 格：￥电议型 号：SI 500产 地：欧洲

  • ICP-RIE SI 500德国 Sentech 等离子刻蚀机

    产品介绍：德国sentech icp-rie si 500 等离子刻蚀机，代表了电感耦合等离子体(icp)加工在研究和生产上的先优势。它以ptsa等离子体源、动态控温基片电、全控真空系统、先进的sentech 控制软件为基础，采用远程现场总线技术，为操作si 500提供了非常人性化的通用用户界面。灵活性和模块化是si 500的设计特点。

    价 格：￥电议型 号：ICP-RIE SI 500产 地：欧洲

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