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ixion 193 SLM 准分子激光器
产品介绍：ixion 193 slm 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 arf 准分子激光器的带宽控制等应用。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter
产品介绍：syskey 紧凑式溅射系统 compact sputter， - 灵活的基板尺寸，最大可达6英寸 - 基板架加热温度最高可达500℃ - 出 色的薄膜均匀性，误差小于±3％ - 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个） - 支持射频、直流或脉冲直流电源 - 最 多可支持3条气体管路 - 支持顺序沉积和共沉积 - 可选配负载锁定腔室
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal
产品介绍：syskey 紧凑式热蒸发系统 compact thermal 灵活的基板尺寸，最大可达6英寸 - 基板架加热温度最高可达500℃ - 出 色的薄膜均匀性，误差小于±3％ - 可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个） - 速率控制沉积 - 可沉积多层薄膜，选用特定目标材料 - 可选配负载锁定腔室
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey高真空溅射系统 HV Sputter
产品介绍：高真空溅射系统 hv sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米 - 基板架加热温度最高可达800℃ - 出 色的薄膜均匀性，误差小于±3％ - 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个） - 支持射频、直流或脉冲直流，适用于非导电或导电靶材 - 可选配射频清洗和刻蚀功能 - 可沉积多层薄膜，选用特定目标材料 - 可与其他沉积系统集成
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter
产品介绍：超高真空磁控溅射镀膜机 uhv sputter, • 基板支架加热至 800 °c • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％ • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本 • 用于非导电或导电目标的射频、直流或脉冲直流• 使用选定的目标材料沉积多层薄膜 • 可与其他特高压沉积系统集成
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal
产品介绍：syskey 高真空热蒸发镀膜机hv thermal，全自动系统可满足各种应用要求，包括oled、opv、opd等。• 基板支架水冷或油冷 • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％ • 船和电池源（数量最多 12 个）• 可以共蒸发和掺杂 • 用选定的目标材料沉积多层薄膜 - 可与手套箱集成
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 超高真空热蒸发镀膜机UHV Thermal
产品介绍：syskey 超高真空热蒸发镀膜机uhv thermal, • 灵活的基板尺寸可达 8 英寸 • 基板支架加热至 800 °c • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％ • 船和电池源（数量最多 6 个）• 可以共蒸发和掺杂。• 用选定的目标材料沉积多层薄膜 • 可与其他沉积系统集成
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 高真空电子束镀膜系统 HV E-beam
产品介绍：syskey 高真空电子束镀膜系统 hv e-beam,灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架加热至 800 °c 或水/油/ln2 冷却 • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％ • 4/6/8 个口袋电子束源（每个口袋最多 40 cc）• 6 kw 电源可支持大部分材料蒸发 • 用选定的目标材料沉积多层薄膜 • 可与其他沉积技术或沉积系统集成
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey Lift-off E-beam 电子束蒸发镀膜系统
产品介绍：syskey lift-off e-beam 电子束蒸发镀膜系统，灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架水、油或 ln2 冷却 • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％ • 4/6/8 个口袋电子束源（每个口袋最多 40 cc）• 6 kw 电源可支持大部分材料蒸发 • 用选定的目标材料沉积多层薄膜 • 负载锁定是可选的，效率高 • 可与其他沉积系统集成 • 样品倾斜是可选的
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 超高真空电子束镀膜 UHV E-beam
产品介绍：syskey 超高真空电子束镀膜 uhv e-beam, • 灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架水、油或 ln2 冷却和倾斜 • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％ • 4/6/8 个口袋电子束光源（每个口袋最多 40 cc） • 6 kw 电源可支持大部分材料蒸发 • 用选定的目标材料沉积多层薄膜 • 2.pngtorr 是可选的铝基约瑟夫森结 • 可与其他沉积系统集成
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 积沉多腔体镀膜系系统 PVD Cluster
产品介绍：syskey 积沉多腔体镀膜系系统 pvd cluster,灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架加热或冷却 • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％ • 溅射/电子束/热/离子蚀刻/氧化/退气 • 用选定的目标材料沉积多层薄膜 • torr 可选择用于不同的设备 - 可与手套箱集成
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 小型多腔体镀膜机 Mini Cluster
产品介绍：syskey 小型多腔体镀膜机 mini cluster, 灵活的基板尺寸可达 2 英寸。 • 基板支架加热或冷却。 • 优 异的薄膜均匀性小于 ±3％。 • 溅射/电子束/热/离子蚀刻/氧化/退气 • 用选定的靶材沉积多层薄膜。 • torr 可针对不同设备进行选择。 - 可与手套箱集成。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 等离子增强原子沉积 PEALD
产品介绍：syskey 等离子增强原子沉积 peald,我们生产用于超薄氧化物和氮化物涂层的 ald 和 peald 系统。6 前体线路可支持5种材料沉积，气体管路拓宽反应窗户。紧凑的手套箱集成不占用额外的实验室空间。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 等离子增强化学气相沉积 PECVD
产品介绍：syskey 等离子增强化学气相沉积 pecvd• 灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架加热至 400 °c • 优 异的薄膜均匀性，低于 ±5％ • 6 条反应性气体管路，适用于 sio2、si3n4 沉积 • 用选定的目标材料沉积多层薄膜 • 负载锁定是可选的 • 等离子自清洁是可选的 • teos 工艺是可选的
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey RIE 反应离子刻蚀机
产品介绍：syskey rie 反应离子刻蚀机，我们生产用于氧化物和氮化物蚀刻的 rie 系统。气体管线可实现硅基材料刻蚀。全自动作，支持一键工序。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 感应耦合-反应离子刻蚀机 ICP-RIE
产品介绍：syskey 感应耦合-反应离子刻蚀机 icp-rie,用于氧化物和氮化物蚀刻的 icp-rie 系统。气体管线可实现金属蚀刻。全自动作，支持一键工序。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey 离子束刻蚀机 IBE
产品介绍：syskey 离子束刻蚀机 ibe, 离子束蚀刻（ibe）是一种先 进的蚀刻技术，利用离子源去除来自基材表面的材料具有卓 越的均匀性和精度。国际教育局可以适用于金属、氧化物、半导体、有机物等多种材料化合物。这种蚀刻方法涉及使用带电粒子的高能束，通常是氩离子，用于物理去除样品表面的材料。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国港澳台
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Syskey CVD Cluster 化学气相沉积
产品介绍：syskey cvd cluster 化学气相沉积，pecvd和peald系统可以组合在一起，实现薄膜的多层沉积封装。单室仅用于某些薄膜沉淀。样品在两者之间转移自动处理腔室。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆
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华欣创能实验室氢气发生器 HXCN-H-MF-S600,HXCN-H-MF-S1200
产品介绍：华欣创能实验室氢气发生器 是一款 专为gc、总烃分析仪等小流量需求场景 设计的高效、安全制氢设备。用于gc载 气，也可用做fid和fpd等检测器的燃烧 气。
价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆
