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Minilock-Orion III美国Trion 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统
产品介绍：minilock-orion iii是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(pecvd)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，或者多尺寸批量处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。可沉积的薄膜包括：氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。
价 格：￥电议型 号：Minilock-Orion III产 地：美洲
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Oracle III美国Trion反应离子刻蚀与沉积系统
产品介绍：oracle iii由中央真空传输系统(cvt)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 oracle iii是市场上最灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
价 格：￥电议型 号：Oracle III产 地：美洲
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Titan美国Trion 离子刻蚀与沉积系统
产品介绍：itan具有反应离子刻蚀(rie)配置、高密度电感耦合等离子沉积(hdicp)或等离子增强型化学汽相沉积(pecvd)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。
价 格：￥电议型 号：Titan产 地：美洲
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LXY-SUV110X6蓝星宇UV清洗改质机
产品介绍：uv臭氧清洗改质机lxy-pl110x16清除玻璃/塑料/金属/陶瓷/硅/电子器件等表面有机污染, 适合生产过程流水线批量作业。
价 格：￥电议型 号：LXY-SUV110X6产 地：中国大陆
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LXY-PL110X16蓝星宇UVO清洗改质机
产品介绍：uv臭氧清洗改质机lxy-pl110x16清除玻璃/塑料/金属/陶瓷/硅/电子器件等表面有机污染, 适合生产过程流水线批量作业。
价 格：￥电议型 号：LXY-PL110X16产 地：中国大陆
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Gemini 和Apollo美国Trion批量生产用设备去胶系统
产品介绍：jbx-8100fs 圆形电子束光刻系统· 最新高精密jbx-8100fs圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
价 格：￥电议型 号：Gemini 和Apollo产 地：美洲
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ExciStar XS200，500美Coherent 准分子激光器
产品介绍：美coherent excistarxs准分子激光器超紧凑、轻型、高度可靠的紫外线光源
价 格：￥电议型 号：ExciStar XS200，500产 地：美洲
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Microwriter ML3英国 Durham 无掩膜光刻机
产品介绍：nanoarch p130是科研3d打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
价 格：￥电议型 号：Microwriter ML3产 地：欧洲
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TriSOL美国 OAI 光功率计
产品介绍：the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
价 格：￥电议型 号：TriSOL产 地：美洲
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30型美国 OAI 型UV光源
产品介绍：30型uv光源是高效的，可用于各种应用。光由椭圆形反射器收集并聚焦在积分/聚光透镜阵列上，以在曝光平面产生均匀的照明。这种紫外光源提供多种光束尺寸，最大24英寸平方，输出光谱范围从220 nm到450 nm，使用适当的灯（包括）。输出功率范围从200瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配备快速更换过滤器组件，使用户能够轻松定制输出光谱。可选配远程排气风扇。
价 格：￥电议型 号：30型产 地：美洲
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Model 200美国 OAI 实验室用手动曝光机
产品介绍：oai 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使oai成为光刻设备行业的导者。 200型是台式面罩对准器，需要小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。
价 格：￥电议型 号：Model 200产 地：美洲
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800MBA美国 OAI 型光学正面和背面光刻机系统
产品介绍：2012sm型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动foup装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
价 格：￥电议型 号：800MBA产 地：美洲
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2012SM美国 OAI 自动化边缘曝光系统
产品介绍：2012sm型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动foup装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
价 格：￥电议型 号：2012SM产 地：美洲
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2000SM,2000AF美国 OAI 边缘曝光系统
产品介绍：两种型号的2000型曝光系统包括uv光源，强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 uv光源提供发散半角<2.0％的可调强度光束。电源从200w到2,000w。强度控制器传感器直接连接到光源，用于精确的强度监控。机器人衬底处理系统是微处理器控制的，并且可以被编程以适应各种各样的衬底尺寸。
价 格：￥电议型 号：2000SM,2000AF产 地：美洲
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5000E美国 OAI 光刻机
产品介绍：oai 5000e型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶，亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近，中，或深紫外范围的光刻胶，并具有计算机控制的led显微镜照明，在不太理想的观察环境中观察。
价 格：￥电议型 号：5000E产 地：美洲
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PhableR 100德国Eulitha 高分辨紫外光刻系统
产品介绍：phabler 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司拥有突破性的phable 曝光技术，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好。
价 格：￥电议型 号：PhableR 100产 地：欧洲
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瑞士 NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机
产品介绍：raith 150 two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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德国 Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统
产品介绍：raith 150 two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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德国Raith Voyager 新一代超高分辨率电子束光刻机
产品介绍：德国raith voyager 新一代超高分辨率电子束光刻机,系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标，可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩，即使在稍差的实验室环境下，仍然能确保系统具有非常好的热稳定性，提高系统对外界环境的容忍度。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
