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高级型原子层沉积机P-300 Advanced ALD

价格：￥电议

品牌名称：$brandModel.Title型号：P-300 Advanced ALD原产地：欧洲更新时间：2026/10/19 9:26:20

产品摘要：PICOSUN P-300 Advanced ALD 高级型原子层沉积机.156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背），高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）；Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm。全自动转载，用工业机器人实现,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 .

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产品分类

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶-导电胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

尼康Nikon光刻机

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

Netzsch差示扫描量热仪

德国YXLON 检测仪

企业档案

会员类型：标准版

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公司网站：http://www.lxyee.net

详细内容

PICOSUN P-300 Advanced ALD 高级型原子层沉积机

技术参数

衬底尺寸和类型：

。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背）
。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）
。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
。粉末与颗粒
。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm
。多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品

工艺温度： 50 - 500 °C

基片传送选件：

。气动升降（手动装载）
。半自动装载，用线性装载器实现
。全自动转载，用工业机器人实现

前驱体：

。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。4根独立源管线，最多加载6个前驱体源

重量： 400 + 300 kg
尺寸：(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准：标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

Picosun 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro 和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的

ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。

工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。