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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

当前位置: 阿仪网 > 光学仪器 > 光学应用 > 光学平台 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示 > 镀膜沉积机 > 芬兰Picosun > 生产线型原子层沉积机P-300S

生产线型原子层沉积机P-300S

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title型号:P-300S原产地:欧洲 更新时间:2026/10/19 9:26:21

产品摘要:P-300S 生产线型原子层沉积机,最大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现
,尺寸:(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

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产品完善度: 访问次数:807

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

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德国Lecia 切片掩膜一体机

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手机网站:http://wap.app17.com/c143096/

公司网站:http://www.lxyee.net

详细内容


P-300S 生产线型原子层沉积机
详细介绍

PICOSUN P-300S Pro ALD

技术参数

衬底尺寸和类型 :最大300mm晶圆/单片

工艺温度:
50 - 500 °C

基片传送选件:。
半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现
。25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现


标准
:SEMI S2认证

前驱体
:。液态,固态,气态,臭氧源
。等离子体(仅供200mm晶圆使用,最多4路气体)
。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
。6条独立源管线,最多加载8个前驱体源(最多12个前驱体源,加上plasma管路共7根独立源管线)


重量
:820 kg

尺寸:
(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

选件:
集群工具,PICOFLOW™扩散增强,N2发生器,尾气处理,定制设计,与工厂软件连接服务。

验收标准
:。标准设备验收标准为Al2O3工艺,
。其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:
- 不均匀性
- 颗粒物含量
- 重金属污染
- 电学性能



PICOSUN高产量的批量型工业用ALD系统

各种先进的批量产品装载及自动化选项ALD技术可以覆盖各种形状、各种表面的样品,可以覆盖最细小的地方,最难到达的地方。具有高度的保形性、均一性及100%无针孔。这使得ALD可以应用于各种行业里,实现各种表面的保护。ALD薄膜可以附着在各种表面上,例如金属,玻璃,塑料,乃至纤维及粉末。作为气相、低温的沉积技术,ALD薄膜可以生长在非常敏感的表面上,例如聚合物薄膜。

今天,
Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色,防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域,ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。

D 应用
ALD U
产品
应用
.

热门标签:P-300S,生产线型原子层沉积机,,生产线型原子层沉积机,Picosun,P-300S原子沉积机

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