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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

当前位置: 阿仪网 > 半导体行业专用仪器设备 > 光刻及涂胶显影设备 > 无掩模光刻机/直写光刻机 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示 > 光刻机&3D打印机 > 中科院 > 多波段定制型紫外光刻机URE-2000/30 D

多波段定制型紫外光刻机URE-2000/30 D

价格:¥490000

品牌名称:$brandModel.Title型号:URE-2000/30 D原产地:中国大陆 更新时间:2026/10/19 9:27:31

产品摘要:具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能

支付方式:

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产品完善度: 访问次数:1328

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

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奥地利EVG光刻杨键合机压印机

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德国Netzsch

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手机网站:http://wap.app17.com/c143096/

公司网站:http://www.lxyee.net

详细内容

URE-2000/30D型(定制)紫外光刻机

1.技术参数

曝光面积:4 英寸

曝光波长 1:365nm 或 405nm(可切换,更换滤光片),

曝光波长 2:248nm

曝光位置 1 和曝光位置 2 自动切换

分辨力:0.8-1m

掩模尺寸:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸(标准配置,其他尺寸可定做)

样片尺寸:直径10mm--100mm 或者 15mm15mm-100mm100mm(标准配置,其他尺寸可定做),可适应厚度为 0.1mm--5mm(最大可扩展为 15mm)

曝光方式:定时(倒 计 时方式)

具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能

照明不均匀性:3%(100mm 范围)

调平接触压力通过传感器保证重复

数字设定对准间隙和曝光间隙

掩模相对于样片运动行程:X: 优于5mm; Y: 优于5mm;:优于6º

最大焦厚:400m(SU8 胶,用户提供检测条件)

光源平行性:<3º

曝光能量密度 1:>20mW/cm²(365 或 405nm),照明面温度<35º

曝光能量密度 2:>3mw/cm²(248nm)

单层曝光一键完成

采用球气浮自动找平

汞灯功率:350W(直流,进口汞灯)


2.外形尺寸:约1400mm(长)900mm(宽)1800mm(高)

URE-2000-30D.png

3.配置设备主要由均匀照明曝光系统、工件台系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设备构成。

配置.png

热门标签:URE-2000/30D,多波段光刻机,紫外光刻机

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