镀膜沉积机(第2页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

OCTOPLUS 400德国MBE-Komponenten 分子束外延系统

日本rion液体光学颗粒度仪ks-19f,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。octoplus 400 是一款通用型mbe系统，非常适合于iii/v族， ii/vi族，及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计，可以装配各种源炉，实现不同材料分子束外延生长。

价格：￥电议型号：OCTOPLUS 400产地：欧洲
OCTOPLUS 500德国MBE-Komponenten 分子束外延系统

octoplus 500 mbe系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的iii/v族或者ii-vi族异质结构材料而研发业分子束外延系统。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。标准的octoplus 500有11个呈放射状分布的源孔，可以根据需要增选3个源孔。

价格：￥电议型号：OCTOPLUS 500产地：欧洲
MC1000日立Hitachi 离子溅射仪

日立hitachi 离子溅射仪 mc1000,采用lcd触摸屏，可以更加简便地设定加工条件,可处理较厚或较大的样品(选配件),记忆功能可存储常用加工条件.

价格：￥电议型号：MC1000产地：日本
Auto500 GB英国HHV 适合手套箱集成的真空镀膜系统

英国hhv auto500 gb 适合手套箱集成的真空镀膜系统，是门设计用于手套箱集成使用的镀膜设备，满足氧气或水汽敏感的材料镀膜的应用要求。该系统配了一个特殊结构的真空腔室，可直接与市场上大多数手套箱集成到一起。真空腔室的门可竖直滑动开关，嵌入手套箱内，并占用很少的手套箱空间；其后门是铰链扇式开关，能在不影响手套箱内气氛的情况下轻松维护腔室内工艺组件。

价格：￥电议型号：Auto500 GB产地：欧洲
P180，PED-180美国Neocera脉冲激光沉积系统及脉冲电子束沉积系统

美国neocera pld 脉冲激光沉积系统 p180 , 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法. ped 脉冲电子束沉积系统 ped-180,是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透将近 1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取（烧灼）使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下，靶材的化学计量与沉积

价格：￥电议型号：P180，PED-180产地：美洲
SSDR 150法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统

法国plassys微波等离子体化学气相沉积系统 ssdr 150 ，门用于合成 cvd 金刚石薄膜，能够制备高纯单晶(需高纯气源）、厚单晶、大单晶、多晶薄膜、光学窗口。ssdr150 不断优化的微波及等离子体设计，是一款可靠的、稳定的、长时间运行的金刚石薄膜生长系统，能够完美地适用于高校科研和企业生产。

价格：￥电议型号：SSDR 150产地：欧洲
BT150,BT300英国HHV桌上型溅射镀膜仪

英国hhv桌上型溅射镀膜仪bt150和bt300,新系列小型桌上系统，触摸屏显示控制，适合于sem及tem电镜样品制备及常规科研的全功能系统。

价格：￥电议型号：BT150,BT300产地：欧洲
Vapour Station 4英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机

英国oxford vacuum 电子束蒸发镀膜机vapour station 4,是一款微纳器件样品制备系统，为有机无机多源有气相分子沉积系统，高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手套箱保护条件下器件后期制作，主要用于有机半导体材料的物理化学性能，研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电蒸发镀膜究。

价格：￥电议型号：Vapour Station 4产地：欧洲
美国Denton Vacuum 金/碳镀膜机

美国denton vacuum 金/碳镀膜机,用于大型工业生产、科研开发和小规模制造。

价格：￥电议型号：产地：美洲
脉冲激光沉积系统，激光分子束外延系统荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统

脉冲激光沉积/激光分子束外延系统，在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

价格：￥电议型号：脉冲激光沉积系统，激光分子束外延系统产地：欧洲
208HR美国TED 高分辨离子溅射仪

208hr高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，可选择多种镀膜材料，精确的膜厚控制，样品台控制灵活，多个样品座，样品室几何可变，宽范围的操作压力，紧凑、现代的桌上型设计，操作容易。

价格：￥电议型号：208HR产地：美洲
Auto500,Ats500真空镀膜系统

英国hhv科研用真空镀膜系统 auto500,ats500，适合研究开发需求的多功能系统平台

价格：￥电议型号：Auto500,Ats500产地：欧洲
Auto 306英国HHV 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备

英国hhv auto 306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备，是一种多功能的紧凑型镀膜设备，设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。auto306可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件，提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。

价格：￥电议型号：Auto 306产地：欧洲
TF500/TF600英国HHV适合先进研发和试生产的全功能系统

tf500/tf600 适合先进研发和试生产的全功能系统，系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件，以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源，也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室（load lock）和样品操纵装置可供选择，以提高真空镀膜效率。

价格：￥电议型号：TF500/TF600产地：欧洲
P-300S生产线型原子层沉积机

p-300s 生产线型原子层沉积机,最大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™ 300集群系统实现,尺寸：(w x h x d) 160 cm x 80 cm x 240 cm

价格：￥电议型号：P-300S产地：欧洲
P-300F,P-300BV生产型原子层沉积机

p-300f,p-300bv 生产型原子层沉积机，p-300f pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系统实现。p-300bv pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载，用真空批量load lock实现。

价格：￥电议型号：P-300F,P-300BV产地：欧洲
PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机

picosun p-200s pro ald 生产型原子层沉积机，衬底尺寸和类型：。50 – 200 mm /单片。156 mm x 156 mm 太阳能硅片。150 mm x 150 mm 显示面板

价格：￥电议型号：PICOSUN P-200S Pro ALD产地：欧洲
R-200 ALD高级型原子层沉积机

芬兰picosun™ r-200高级型 ald，衬底尺寸和类型：。50-200 mm /单片。156 mm x 156 mm太阳能硅片。3d复杂表面衬底。粉末与颗粒。roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm 。多孔，通孔，高深宽比（har）样品

价格：￥电议型号：R-200 ALD产地：欧洲
PICOSUN R-200标准型原子层沉积机ALD

picosun™ r-200标准型原子层沉积机，picosun™ r系列设备提供高质量ald薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。

价格：￥电议型号：PICOSUN R-200产地：欧洲
R-200 标准型芬兰 PICOSUN 原子层沉积机

芬兰 picosun r-200标准型ald,为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的picosun™ r系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。

价格：￥电议型号：R-200 标准型产地：欧洲