镀膜沉积机(第3页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

P-1000 Pro ALDPICOSUN 生产型原子层沉积机

德国 picosun p-1000 pro ald 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）,高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）,(w x h x d) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.

价格：￥电议型号：P-1000 Pro ALD产地：欧洲
P-300 Advanced ALD高级型原子层沉积机

picosun p-300 advanced ald 高级型原子层沉积机.156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背），高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）；roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm。全自动转载，用工业机器人实现,标准设备验收标准为 al2o3 工艺 .

价格：￥电议型号：P-300 Advanced ALD产地：欧洲
P-300B Advanced ALD高级原子沉积机

picosun p-300b advanced ald 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）,(w x h x d) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.

价格：￥电议型号：P-300B Advanced ALD产地：欧洲
NLD-4000美Nano-master 原子沉积机

nano-master nld-4000 是一款独立式计算机控制的ald系统，全自动工艺控制并包含完整的安全连锁功能，能够沉积半导体应用中的氧化物和氮化物（比如aln, gan, tan, tin, al2o3, zro2, lao2, hfo2），支持太阳能和mems等众多域的应用

价格：￥电议型号：NLD-4000产地：美洲
108Auto美TED PELLA 自动离子溅射仪

108auto是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

价格：￥电议型号：108Auto产地：美洲
DENTON磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台英国 DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台

denton 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台,提供了薄膜工业中广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。

价格：￥电议型号：DENTON磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台产地：欧洲
DV-502B英国 Denton 热蒸发溅射仪

denton 热蒸发溅射仪dv-502b，在大气和高真空之间快速循环。

价格：￥电议型号：DV-502B产地：欧洲
MEB550SL3法Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机

法plassys超高真空多腔体电子束镀膜机meb550sl3，可以用于沉积ti, ni, au, cr, al, al2o3等金属及氧化物薄膜，目全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。

价格：￥电议型号：MEB550SL3产地：欧洲
美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD台式三维原子沉积系统ALD

美arradiance 台式三维原子沉积系统ald，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可最多容纳9片8英寸基片同时沉积。gemstar xt全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。

价格：￥电议型号：美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD产地：美洲
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter

syskey 紧凑式溅射系统 compact sputter，- 灵活的基板尺寸，最大可达6英寸- 基板架加热温度最高可达500℃- 出色的薄膜均匀性，误差小于±3％- 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个）- 支持射频、直流或脉冲直流电源- 最多可支持3条气体管路- 支持顺序沉积和共沉积- 可选配负载锁定腔室

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal

syskey 紧凑式热蒸发系统 compact thermal 灵活的基板尺寸，最大可达6英寸- 基板架加热温度最高可达500℃- 出色的薄膜均匀性，误差小于±3％- 可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个）- 速率控制沉积- 可沉积多层薄膜，选用特定目标材料- 可选配负载锁定腔室

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey高真空溅射系统 HV Sputter

高真空溅射系统 hv sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米- 基板架加热温度最高可达800℃- 出色的薄膜均匀性，误差小于±3％- 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个）- 支持射频、直流或脉冲直流，适用于非导电或导电靶材- 可选配射频清洗和刻蚀功能- 可沉积多层薄膜，选用特定目标材料- 可与其他沉积系统集成

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter

超高真空磁控溅射镀膜机 uhv sputter,• 基板支架加热至 800 °c• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％• 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本• 用于非导电或导电目标的射频、直流或脉冲直流• 使用选定的目标材料沉积多层薄膜• 可与其他特高压沉积系统集成

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal

syskey 高真空热蒸发镀膜机hv thermal，全自动系统可满足各种应用要求，包括oled、opv、opd等。• 基板支架水冷或油冷• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％• 船和电池源（数量最多 12 个）• 可以共蒸发和掺杂• 用选定的目标材料沉积多层薄膜- 可与手套箱集成

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 超高真空热蒸发镀膜机UHV Thermal

syskey 超高真空热蒸发镀膜机uhv thermal, • 灵活的基板尺寸可达 8 英寸• 基板支架加热至 800 °c• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％• 船和电池源（数量最多 6 个）• 可以共蒸发和掺杂。• 用选定的目标材料沉积多层薄膜• 可与其他沉积系统集成

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 高真空电子束镀膜系统 HV E-beam

syskey 高真空电子束镀膜系统 hv e-beam,灵活的基板尺寸可达 12 英寸• 基板支架加热至 800 °c 或水/油/ln2 冷却• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％• 4/6/8 个口袋电子束源（每个口袋最多 40 cc）• 6 kw 电源可支持大部分材料蒸发• 用选定的目标材料沉积多层薄膜• 可与其他沉积技术或沉积系统集成

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey Lift-off E-beam 电子束蒸发镀膜系统

syskey lift-off e-beam 电子束蒸发镀膜系统，灵活的基板尺寸可达 12 英寸• 基板支架水、油或 ln2 冷却• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％• 4/6/8 个口袋电子束源（每个口袋最多 40 cc）• 6 kw 电源可支持大部分材料蒸发• 用选定的目标材料沉积多层薄膜• 负载锁定是可选的，效率高• 可与其他沉积系统集成• 样品倾斜是可选的

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 超高真空电子束镀膜 UHV E-beam

syskey 超高真空电子束镀膜 uhv e-beam, • 灵活的基板尺寸可达 12 英寸• 基板支架水、油或 ln2 冷却和倾斜• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％• 4/6/8 个口袋电子束光源（每个口袋最多 40 cc）• 6 kw 电源可支持大部分材料蒸发• 用选定的目标材料沉积多层薄膜• 2.pngtorr 是可选的铝基约瑟夫森结• 可与其他沉积系统集成

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 积沉多腔体镀膜系系统 PVD Cluster

syskey 积沉多腔体镀膜系系统 pvd cluster,灵活的基板尺寸可达 12 英寸• 基板支架加热或冷却• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％• 溅射/电子束/热/离子蚀刻/氧化/退气• 用选定的目标材料沉积多层薄膜• torr 可选择用于不同的设备- 可与手套箱集成

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台
Syskey 小型多腔体镀膜机 Mini Cluster

syskey 小型多腔体镀膜机 mini cluster, 灵活的基板尺寸可达 2 英寸。• 基板支架加热或冷却。• 优异的薄膜均匀性小于 ±3％。• 溅射/电子束/热/离子蚀刻/氧化/退气• 用选定的靶材沉积多层薄膜。• torr 可针对不同设备进行选择。- 可与手套箱集成。

价格：￥电议型号：产地：中国港澳台