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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4
价格：￥电议
品牌名称：$brandModel.Title型号：Vapour Station 4原产地：欧洲 更新时间：2026/10/19 9:26:57
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详细内容
微纳器件样品制备系统
产品简介
该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统，为有机无机多源有 气相分子沉积系统，高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜，具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作，主要用于有机半导体材料的物理化学性能， 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电蒸发镀膜研究；
真空室采用优质不锈钢，氩弧焊接、采用先进钝化处理工艺。基片台尺 寸：3 英寸，配备一套 TELEMARK 的单袋电子束靶枪一套；镀膜室用一台 高精度石英晶振膜厚监测仪进行薄膜厚度监测，配备有原装石英晶振探头； 镀膜生长室放置2个热阻蒸发舟，是一款真空高性价比的电子束蒸发镀膜机。
技术参数
尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)
真空腔体:
真空腔体要求：大样品尺寸为 3 英寸，样品台直径为 75mm； 薄膜均匀性≤±1%；
限压力：真空腔室薄膜高真空度＜3×10⁻⁷ mbar；
真空计：真空测量系统，宽范围的真空规，高真空度小于 3×10⁻⁷mbar；
样品夹：真空腔体里配有样品夹，能够固定住样品；
挡板：真空腔体里配有沉积挡板，工作时能区分开不同样品；
蒸发样品池：配置单袋容量 1.5cc 的电子束靶枪，电源功率为3KW ；
蒸发舟：2个热蒸发钨舟，用于沉积一些热蒸发材料；
薄膜监测仪：
.电脑控制的薄膜监测仪，能实时监测薄膜的厚度情况；
.测量频率范围至少包含6.0 to 5.0 MHz这个范围；
.频率分辨率应≤±0.03 Hz （at 6 MHz）； 测量间隔应≤0.10 s；厚度显示分辨率≤1 Å；
真空系统：
.真空系统组成：应至少包含一台干式涡旋泵和一台涡轮分子 泵，美国安捷伦干式涡旋泵作为泵；
.爱德华涡轮分子泵：
-N2抽速：240 L/s；
-限真空（ISO）：<6×10-8mbar；
-强制空气冷却，35°C,环境温度：30sccm；
-标称旋转速度：60000rpm；
-待机旋转速度范围：33000-60000rpm；
-可编程功率限制范围：50-200W
-强制空气冷却的环境空气温度：5-35°C；
-噪音别：<45dB(A)
冷却方式包含有风冷和水冷两种方式可供提选择；
热门标签：英国Oxford,Vacuum,电子束蒸发镀膜机Vapour,Station,4
