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DSC 214 Polyma德国Netzsch差示扫描量热仪
产品介绍：德国netzsch差示扫描量热仪 dsc 214 polyma, 特别适用于聚合物热分析的智能系统,该款仪器具有多种新特色，尤其为高分子域的用户提供了及其便捷、强大的方案。
价 格：￥电议型 号：DSC 214 Polyma产 地：欧洲
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KS-42CRion 液体光学颗粒度仪
产品介绍：液体光学颗粒度仪 ks-42c，宽广的测试范围，可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高的颗粒数据。
价 格：￥电议型 号：KS-42C产 地：中国大陆
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EVG720奥地利EVG紫外纳米压印系统
产品介绍：evg720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。evg720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。
价 格：￥电议型 号：EVG720产 地：欧洲
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HERCULES NIL奥地利EVG紫外纳米压印系统
产品介绍：evg的hercules nil 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是evg的nil产品组合的新成员。 hercules nil基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与evg的有smartnil大面积纳米压印（nil）模块结合在一起，用于直径大为300 mm的晶片。
价 格：￥电议型 号：HERCULES NIL产 地：中国大陆
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RTP-150德国UnitemP真空快速退火炉
产品介绍：德国unitemp真空快速退火炉rtp-150, 单晶圆，150mm，快升温速率可达150k/s
价 格：￥电议型 号：RTP-150产 地：欧洲
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OCTOPLUS 400德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
产品介绍：日本rion液体光学颗粒度仪ks-19f,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。octoplus 400 是一款通用型mbe系统，非常适合于iii/v族， ii/vi族，及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计，可以装配各种源炉，实现不同材料分子束外延生长。
价 格：￥电议型 号：OCTOPLUS 400产 地：欧洲
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KS-19F日本RION液体光学颗粒度仪
产品介绍：日本rion液体光学颗粒度仪ks-19f,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。
价 格：￥电议型 号：KS-19F产 地：中国大陆
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AS-ONE法国Annealsys 高温退火炉
产品介绍：法国annealsys 高温退火炉as-one, 多用途快速热处理设备，适用于硅，化合物半导体，太阳能电池& mems.
价 格：￥电议型 号：AS-ONE产 地：中国大陆
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Pioneer 180-2-PLD氮化镓支撑片，晶片，硅片
产品介绍：2英寸氮化镓自支撑晶片, 10×10.5mm²氮化镓自支撑晶片, 非性/半性氮化镓自支撑晶片, 4英寸氮化镓厚膜晶片, 2英寸氮化铝厚膜晶片, 2英寸氮化镓厚膜晶片
价 格：￥电议型 号：Pioneer 180-2-PLD产 地：中国大陆
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Pioneer 180-2-PLD美国Neocera 脉冲激光沉积系统
产品介绍：美国neocera 脉冲激光沉积系统pioneer 180-2-pld,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
价 格：￥电议型 号：Pioneer 180-2-PLD产 地：美洲
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CS-200z日本Ulvac返回式真空溅射装置
产品介绍：返回式真空溅射装置 cs-200z，高真空交直流溅射设备.适用于金属、合金 、陶瓷材料的高品质溅射成膜.
价 格：￥电议型 号：CS-200z产 地：日本
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NE-550Z日本Ulvac干法等离子刻蚀装置
产品介绍：ne-550z是高真空load-lock式干法等离子刻蚀装置，适用于半导体材料、金属材料等的精细刻蚀
价 格：￥电议型 号：NE-550Z产 地：日本
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EVG620奥地利EVG单双面光刻机(带有压印功能）
产品介绍：evg620 单面/双面光刻机(带有压印功能），evg620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。evg620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿
价 格：￥电议型 号：EVG620产 地：欧洲
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EVG510IS奥地利EVG键合机
产品介绍：evg520is是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统， 大硅片允许尺寸为200mm。集evg新技术及客户反馈基础上设计的evg520is，配备了evg公司的利吸盘设计---这种吸盘可以提供对称的快速加热和冷却功能。evg520is的很多优势特性，如独立的上下盘加热和高压键合工艺、高度的材料和工艺灵活性等，都帮助客户很好的实施键合研究和生产。
价 格：￥电议型 号：EVG510IS产 地：欧洲
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EVG510奥地利EVG键合机
产品介绍：奥地利evg键合机：evg510，是一款半自动晶圆键合系统，可以处理大200mm的晶圆，非常适合于研发和小批量生产。evg510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程，并配备了业界公认的优异的加热和压力均匀性系统。evg510模块化的键合腔室设计可用于150mm或200mm晶圆键合，并且其工艺菜单与evg其他更高系列的键合机相匹配，可以方便的实现从实验线到量产线的工艺复制。
价 格：￥电议型 号：EVG510产 地：欧洲
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EVG610奥地利EVG掩膜光刻机
产品介绍：evg610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理大200mm之内的各种规格的晶片。evg610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在一分钟之内完成，而不需要门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
价 格：￥电议型 号：EVG610产 地：其它
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EVG7200奥地利SmartNIL紫外纳米压印
产品介绍：奥地利smartnil紫外纳米压印：evg7200，leds 制作，led pss纳米压印工艺，led纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。
价 格：￥电议型 号：EVG7200产 地：欧洲
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DC4000俄罗斯Optosystems准分子激光器
产品介绍：俄罗斯optosystems准分子激光器dc4000,非常高的重复频率高达6千赫，高平均功率达160w，金属陶瓷设计，使用寿命长，能量稳定性好特性，hv固态开关，功率稳定，计算机控制，应用：材料加工，激光剥离
价 格：￥电议型 号：DC4000产 地：欧洲
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7X200俄罗斯Optosystems准分子激光器
产品介绍：俄罗斯optosystems准分子激光器7x200,应用：脉冲激光沉积技术，准分子激光退火，高脉冲能量，高平均功率，高压固态开关，功率稳定运行模式，内置的能量检测器，内置能量无油真空泵与卤素过滤器，预混料气体，使用简单，计算机控制
价 格：￥电议型 号：7X200产 地：欧洲
