当前位置：阿仪网 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 配件展示
企业档案
会员类型：标准版
已获得阿仪网信誉 等级评定
(0 -40)基础信誉积累，可浏览访问
(41-90)良好信誉积累，可接洽商谈
(91+ )优质信誉积累，可持续信赖
阿仪网标准版会员：8年
工商认证 【已认证】
最后认证时间：
注册号： 【已认证】
法人代表： 【已认证】
参观次数：848592
手机网站：http://wap.app17.com/c143096/
公司网站：http://www.lxyee.net
光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 德国SUSS
- 美国Sonoplot
- 美国Photonics
- 美国OAI
- China
- 俄罗斯Optosystem
- 美国Coherrent
- 中科院
- 纳米压印机
- Elinoix 电子束光刻机
- 尼康Nikon光刻机
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 激光微加工设备
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 英国AML晶圆键合机
- 德国Raith 电子束光刻机
- 德 xiton 准分子激光器
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
- 英国HHV
- 英国Oxford
- 英国Denton
- 芬兰Picosun
- 美国Nano-master
- 法国Iplas
- 美国TED Pella
- 荷兰 TSST
- 美国Denton Vacuum
- 美Arradiance
- 法国Plassys
- 英国Oxford Vacuum
- 日立Hitachi
- 美国Neocera
- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- Syskey 镀膜系统
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率Ｘ射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
- 少子寿命测试仪
- 纳米压痕仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- XRD X射线衍射仪
- X 射线多晶衍射仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- 德国IPI 水汽分析系统
- 德国PVA TePla 超声波扫描显微镜
- 德国ThetaMetrisis膜厚测量仪
实验检测仪器
- PPMS 综合物性测量系统
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- 纽迈核磁共振分业析
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- 德国耐驰Netzsch
- 德国Moeller 测角仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 接触角测量仪
- 氟油检漏仪
- 光学式坐标测量仪
- 光功率计
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 纳米压痕仪
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 振动样品磁强计
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- 智能型氦液化器
- 美OAI 光功率计
- 英Glovebox 手套箱
- LakeShore 振动样品磁强计
- 德国Attocube 显微镜
- 粒子碰撞噪声检测仪
- Rion 液体光学颗粒度仪
- ADLEMA 检漏机
- 德YXLON CT检测
- 电子元器件水份分析仪
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 蓝星宇UV清洗机
- SAMCO紫外臭氧清洗机
太阳能检测仪
UV灯
日立Hitachi
半导体辅助工艺/光刻胶
光刻胶/硅片
化学开封机 / 激光开封机
日本Elionix
德国Lecia 切片掩膜一体机
尼康Nikon光刻机
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
日本理音Rion 微粒子计数器
德国Netzsch
德国YXLON 检测仪
-
连续化学采样检测系统CSI
产品介绍：化学分析实验室采用连续化学采样检测系统（csi）监测半导体工艺中的化学品，以检测微量金属杂质。该系统使用电感耦合等离子体质谱仪（icp-ms）进行24/7的连续监测，确保化学品在运输和更换过滤器过程中不受污染。在线接口软件（ois）控制阀门、自动进样器和icp-ms，实现自动校准和质量控制。该系统能够生成浓度和计数趋势图，并具备自动重新分析功能。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
-
连续化学品检测系统 CSI
产品介绍：csi 连续化学品检测系统：化学敏感仪器监测半导体晶圆厂使用的化学物质，通过连续化学采样检测（csi）系统监测微量金属杂质，以避免器件故障。系统采用电感耦合等离子体质谱仪（icp-ms）对化学品进行24/7的连续监测，包括液相（lt）和气溶胶相（at）两种样品运输方式。l
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
-
金属标准气雾剂生成系统 MSAG
产品介绍：msag金属标准气雾剂生成系统，是一种用于纳米颗粒分析及直接气体分析的重要工具，尤其适用于电感耦合等离子体质谱法（icp-ms）。该设备能够以0至3μl/min的速度将混合金属标准溶液引入雾化器，确保了高灵敏度和准确性。通过msgg装置监测icp-ms灵敏度变化，并利用钼气态标准作为内标。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
-
激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统LAGM
产品介绍：lagm激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统采用飞秒激光和电流计镜，可精确烧蚀 300 毫米晶圆样品，无需小型封闭腔室。系统配备双注射器模型 msag_ds，支持标准加入法进行定量分析，具备点和面倾斜度、轮廓及杂质分析功能。系统能全自动操作，支持多种分析模式如全扫描、斑点、直线、块模式及深度剖面模式，适用于晶圆和非晶圆样品的全 面分析。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
-
硅片金属杂质分析系统 Expert
产品介绍：硅片金属杂质分析系统 expert,全自动汽车扫描系统与真空二次离子质谱法（vpd-icp-ms）结合，为硅片金属杂质分析提供了高效的解决方案。系统具备多个型号，包括适用于实验室和工厂自动化的expert_lab、expert_ps和expert_fab。这些系统支持多种扫描模式，如全扫描、径向扫描和倾斜扫描，可实现从大容量蚀刻到深度轮廓测量的全 面分析。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
-
WaferX 310Rigaku X射线荧光分析仪
产品介绍：日本rigaku x射线荧光分析仪 waferx 310, 通过x射线以大角度照射在镀膜的硅片样品上,产生镀膜 样品的相应特征x射线的方法，进而分析测量硅片样品的 镀膜厚度。
价 格：￥电议型 号：WaferX 310产 地：日本
-
SI 500德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500
产品介绍：德国sentech icp-rie等离子蚀刻机- si 500，8英寸的晶圆
价 格：￥电议型 号：SI 500产 地：中国大陆
-
SI 500-300德国 Sentech 多晶圆等离子刻蚀机
产品介绍：icp-rie plasma etcher - si 500-300 multiwafer si 500-300多晶圆等离子刻蚀机 300 mm / 400 mm 载板，用于多片晶圆
价 格：￥电议型 号：SI 500-300产 地：欧洲
-
SI 500 RIE德国Sentech 等离子刻蚀机
产品介绍：德国sentech 等离子刻蚀机 si 500 rie，rie 蚀刻机，最大 8 英寸晶圆, 带可选的 icp 源扩展
价 格：￥电议型 号：SI 500 RIE产 地：欧洲
-
SI 500 C德国Sentech 低温等离子蚀刻机
产品介绍：德国sentech 低温等离子蚀刻机 si 500 c，最大 8 英寸晶圆，-150°c...+150°c
价 格：￥电议型 号：SI 500 C产 地：欧洲
-
Etchlab 200德国Sentech 反应离子刻蚀机
产品介绍：德国sentech 反应离子刻蚀机 etchlab 200，最大 8 英寸晶圆，硅及相关材料的蚀刻
价 格：￥电议型 号：Etchlab 200产 地：欧洲
-
Etchlab 380德国Sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机
产品介绍：德国sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机 etchlab 380，最大 300 mm 晶圆，用于多个晶圆的 380 mm 载体
价 格：￥电议型 号：Etchlab 380产 地：欧洲
-
-
Depolab 200德国Sentech PECVD沉积设备
产品介绍：德国sentech pecvd沉积设备 depolab 200， 最大 8 英寸晶圆，高达 400°c 的基板温度，低频混合，300-500 khz 可选
价 格：￥电议型 号：Depolab 200产 地：欧洲
-
SI 500 PPD德国Sentech PECVD沉积设备
产品介绍：德国sentech pecvd沉积设备 si 500 ppd,最大 8 英寸晶圆, 高达 350°c 的基板温度, 低频混合，300-500 khz可选
价 格：￥电议型 号：SI 500 PPD产 地：欧洲
-
SI 500 D德国Sentech PECVD沉积设备
产品介绍：德国sentech pecvd沉积设备 si 500 d，最大 8 英寸晶圆，rt....300/400°c 基板温度
价 格：￥电议型 号：SI 500 D产 地：欧洲
-
SI ALD / SI PEALD德国Sentech 原子层沉积设备
产品介绍：德国sentech 原子层沉积设备 si adl ll/ si peald ll,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3d保形沉积, 400/500°c 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.
价 格：￥电议型 号：SI ALD / SI PEALD产 地：欧洲
-
SI ADL LL/ SI PEALD LL德国Sentech 原子层沉积设备
产品介绍：德国sentech 原子层沉积设备 si adl ll/ si peald ll,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3d保形沉积, 400/500°c 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.
价 格：￥电议型 号： SI ADL LL/ SI PEALD LL产 地：欧洲
-
德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备
产品介绍：德国sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备,集群配置,所有等离子工具都可以排列在一个集群工具中。提供用于研发和高吞吐量生产的集群。通过单个晶圆装载锁和/或晶圆盒站装载晶圆。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
-
SLI 670德国Sentech激光干涉仪
产品介绍：德国sentech激光干涉仪 sli 670，670 nm 波长，光斑尺寸 100 μm，电动载物台，反射率和干涉模式
价 格：￥电议型 号： SLI 670产 地：欧洲
