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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

尼康Nikon光刻机

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

德国YXLON 检测仪

  • Hysitron TI 980 TriboIndenter全自动超声波扫描显微镜

    产品介绍:echo pro 全自动超声波扫描显微镜美 sonix 全自动超声波扫描显微镜echo pro , 批量 tray盘和框架直接扫瞄, 编程自动判别缺陷, 高产量,无需人员重复设置, 自动烘干.

    价 格:¥电议型 号:Hysitron TI 980 TriboIndenter产 地:中国大陆

  • Hysitron TI 980 TriboIndenter纳米压痕仪

    产品介绍:hysitron ti 980 纳米压痕仪bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速纳米力学研究进入更高阶段,同时具有高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新,它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。ti 980达到了台优异纳米力学测试仪

    价 格:¥电议型 号:Hysitron TI 980 TriboIndenter产 地:欧洲

  • NIE-4000 ,NIR-4000 IBE/RIE离子束刻蚀系统

    产品介绍:nie-4000 离子束刻蚀系统,nir-4000 ibe/rie 双刻蚀系统,通过加速的 ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。

    价 格:¥电议型 号:NIE-4000 ,NIR-4000 IBE/RIE产 地:美洲

  • 4511A、4511L、4511M4、4511M6美SD粒子碰撞噪声检测仪

    产品介绍:美sd粒子碰撞噪声检测仪4511a、4511l、4511m4、4511m6,用于检测集成电路、晶体管、电容器、航空/航天/军事域的继电器等电子元器件封装内的多余物松散颗粒.

    价 格:¥电议型 号:4511A、4511L、4511M4、4511M6产 地:美洲

  • UV Led美国OAI光源

    产品介绍:oai uv led 光源-对准和均匀,适用于高要求的光刻应用。

    价 格:¥电议型 号:UV Led产 地:美洲

  • Model 6020S美国OAI紫外光刻机

    产品介绍:oai的面板掩模光刻机 model 6020s, 用于foplp型号6020s -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm 晶圆尺寸的fo-plp加工.

    价 格:¥电议型 号:Model 6020S产 地:美洲

  • Model 6000美国OAI紫外光刻机

    产品介绍:oai 掩膜光刻机 model 6000型,高吞吐量180 wph,灵活处理基板从2“平方到12”平方

    价 格:¥电议型 号:Model 6000产 地:美洲

  • Model 800E美国OAI掩模对准系统

    产品介绍:oai model 800e 型掩模对准系统,各种光谱范围选项:hg灯:g(436nm),h(405nm), i(365nm)和310nm线,hg-xe灯:260nm和220nm

    价 格:¥电议型 号:Model 800E产 地:美洲

  • Model 212美国OAI紫外光刻机

    产品介绍:oai model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm

    价 格:¥电议型 号:Model 212产 地:美洲

  • OAI 200美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统

    产品介绍:美国 oai 光刻机 model 200 型桌面掩模对准器系统,完全手工操作,输出光谱范围:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm线,hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm

    价 格:¥电议型 号:OAI 200产 地:美洲

  • AR-P617德国 ALLRESIST 电子束光刻胶

    产品介绍:德国allresist 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(e-beam resist) 电子束正胶:pmma 胶,pmma/ma 聚合物, liga 用胶等。 电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(高灵敏度电子束胶)等。

    价 格:¥电议型 号:AR-P617产 地:欧洲

  • 德国 ALLRESIST 特殊工艺用光刻胶

    产品介绍:德国allresist 特殊工艺用光刻胶,电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶),全息光刻用胶,长波曝光胶, 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • 德国 ALLRESIST 紫外光刻胶

    产品介绍:德国 allresist 紫外光刻胶,各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,liga用胶等。各种波长: 深紫外(deep uv)、i线(i-line)、g线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • TL-1 EX,TL-1 Plus激光开封机

    产品介绍:tl-1 plus 系列 激光开封系统(laser d cap),脉冲式光纤激光,激光最大输出功率: 10w ,20w,30w,50w (可选),激光波长:1064nm,开封速度: 0-12000mm/s (理论速度≤12000mm/s)

    价 格:¥电议型 号:TL-1 EX,TL-1 Plus产 地:中国大陆

  • 硅片-进口原厂正片

    产品介绍:硅片-进口原厂正片,直径:2~12英寸,电阻率:常用各种范围均提供,0.001~10k欧姆.厘米

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • 硅片-国产正片

    产品介绍:国产正片,晶向:,, ,直径:2~8英寸

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • FZ硅片(进口)

    产品介绍:进口fz硅片, 直径2~8英寸, 阻值:几十ωcm-20kωcm及以上

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • SOI硅片

    产品介绍:soi硅片,直径4~8英寸 ,可提供bonding工艺soi和smart cut工艺soi

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • 氧化硅片

    产品介绍:氧化硅片(国产/进口),直径 1~12英寸 ,氧化层厚度:100å~20um

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

  • 其他特殊硅片

    产品介绍:其他特殊硅片,超厚硅片,金属化硅片(镀金,镀铝,镀铜等等),超平硅片 ,特殊晶向硅片,穿孔硅片 ,绒化硅片光固化胶:ormo 系列

    价 格:¥电议型 号:产 地:中国大陆

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