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SENDIRA红外光谱椭偏仪
产品介绍：sendira红外光谱椭偏仪,振动光谱的特点是傅立叶红外光谱仪ftir。测量红外分子振动模的吸收谱带，分析长分子链的走向和薄膜的组成。红外光谱椭偏仪适用于测量导电膜的电荷载流子浓度。
价 格：￥电议型 号：SENDIRA产 地：欧洲
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SENpro光谱椭偏仪
产品介绍：德国 sentech 低成本高效益的光谱椭偏仪senpro,senpro椭偏仪是椭偏仪应用的智能解决方案。它具有角度计，入射角度步进值5°。操作简单，快速测量和直观的数据分析相结合，以低成本效益高的设计来测量单层和多层膜的厚度和光学常数。
价 格：￥电议型 号：SENpro产 地：欧洲
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SENresearch 4.0拥有宽光谱范围的光谱椭偏仪
产品介绍：nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 nsenresearch 4.0:拥有宽光谱范围的光谱椭偏仪
价 格：￥电议型 号：SENresearch 4.0产 地：欧洲
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IoN 100 WB德国 PVA TePla 等离子清洗机
产品介绍：德国 pva tepla 等离子清洗机ion 100 wb,旨在满足客户大批量生产的需求，着重于表面处理的多功能性和可控性。其先进的性能提供了出色的工艺控制、失效报警系统和数据采集软件。
价 格：￥电议型 号：IoN 100 WB产 地：欧洲
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80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plu德国 PVA TePla等离子清洗系统
产品介绍：德国 pva tepla等离子清洗系统80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有别于传统的射频等离子(物理)清洗方式，微波等离子清洗可以清洗到样品的每一个部位，实现清洗过程的自由基不会被障碍物所阻挡，并且不会改变表面的粗糙度。
价 格：￥电议型 号：80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plu产 地：欧洲
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IoN 100WB-40Q德国 PVA TePla 等离子去胶机
产品介绍：ion 100wb-40q 德国 pva tepla 等离子去胶机，最新推出的具有高性价比的真空等离子去胶设备，配备了一个圆筒石英腔，特别适用于半导体、led、mems等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物刻蚀、表面清洁等应用的批次处理。
价 格：￥电议型 号：IoN 100WB-40Q产 地：欧洲
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HS-AFM日本RIBM 超高速视频级原子力显微镜
产品介绍：日本ribm hs-afm超高速视频级原子力显微镜，突破了 “扫描成像速慢”的限制，扫描速度最高可达 20 frame/s，并且有 4 种扫描台可供选择。样品无需特殊固定染色，不影响生物分子的活性，尤其适用于生物大分子互作动态观测。液体环境下直接检测，超快速动态成像，分辨率为纳米水平。
价 格：￥电议型 号：HS-AFM产 地：日本
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TF500/TF600英国HHV适合先进研发和试生产的全功能系统
产品介绍：tf500/tf600 适合先进研发和试生产的全功能系统，系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件，以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源，也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室（load lock）和样品操纵装置可供选择，以提高真空镀膜效率。
价 格：￥电议型 号：TF500/TF600产 地：欧洲
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Auto 306英国HHV 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备
产品介绍：英国hhv auto 306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备，是一种多功能的紧凑型镀膜设备，设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。auto306可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件，提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。
价 格：￥电议型 号：Auto 306产 地：欧洲
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Auto500 GB英国HHV 适合手套箱集成的真空镀膜系统
产品介绍：英国hhv auto500 gb 适合手套箱集成的真空镀膜系统，是门设计用于手套箱集成使用的镀膜设备，满足氧气或水汽敏感的材料镀膜的应用要求。该系统配了一个特殊结构的真空腔室，可直接与市场上大多数手套箱集成到一起。真空腔室的门可竖直滑动开关，嵌入手套箱内，并占用很少的手套箱空间；其后门是铰链扇式开关，能在不影响手套箱内气氛的情况下轻松维护腔室内工艺组件。
价 格：￥电议型 号：Auto500 GB产 地：欧洲
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Auto500,Ats500真空镀膜系统
产品介绍：英国hhv科研用真空镀膜系统 auto500,ats500，适合研究开发需求的多功能系统平台
价 格：￥电议型 号：Auto500,Ats500产 地：欧洲
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PlasmaPro 100 ALE牛津原子层刻蚀机
产品介绍：plasmapro 100 ale 牛津原子层刻蚀机，市场应用广，包括但不限于： mems和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
价 格：￥ 7型 号：PlasmaPro 100 ALE产 地：欧洲
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PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统
产品介绍：plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蚀系统，旨在提供深硅蚀刻（dsie）域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（mems）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。
价 格：￥ 7型 号：PlasmaPro 100 Estrelas产 地：欧洲
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Ionfab 300 IBE牛津离子束刻蚀机
产品介绍：已获得利的高速衬底架（高达1000rpm）设计，并配备了白光光学监视器（wlom）——更为准确的实时光学薄膜控制
价 格：￥ 7型 号：Ionfab 300 IBE产 地：欧洲
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OpAL牛津开放式样品载入ALD设备
产品介绍：牛津opal开放式样品载入ald设备，紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ald）系统，opal提供了业的热ald设备，可以简单明了的升使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ald。
价 格：￥ 4型 号：OpAL产 地：欧洲
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PlasmaPro 80 ICP英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机
产品介绍：plasmapro 80 icp 英国牛津oxford 等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。
价 格：￥ 4型 号：PlasmaPro 80 ICP产 地：欧洲
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System 100牛津Oxford等离子刻蚀与沉积设备
产品介绍：牛津oxford system 100 等离子刻蚀与沉积设备,该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备,具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术.
价 格：￥ 4型 号：System 100产 地：欧洲
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PlasmaPro 80 ICPCVD牛津ICP等离子沉积机
产品介绍：plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等离子沉积机，是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
价 格：￥电议型 号：PlasmaPro 80 ICPCVD产 地：欧洲
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Plasma Stripper (Asher)等离子去胶机(灰化)
产品介绍：plasmapro 80 rie 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
价 格：￥电议型 号：Plasma Stripper (Asher)产 地：欧洲
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PlasmaPro 80 RIE牛津等离子体刻蚀机
产品介绍：plasmapro 80 rie 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
价 格：￥电议型 号：PlasmaPro 80 RIE产 地：欧洲
