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RIE SI591德国 Sentech 反应离子刻蚀机
产品介绍：entech rie si591 平板电容式反应离子刻蚀机，兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺；小型化和高度模块化；sentech控制软件
价 格：￥电议型 号：RIE SI591产 地：欧洲
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Etchlab 200 RIE德国 Sentech 等离子刻蚀机
产品介绍：etchlab 200 rie等离子体蚀刻机是一种将rie平行板电设计的优点与直接负载的低成本设计相结合的直接负载等离子体蚀刻机系列。etchlab 200具有简单快速的样品加载功能，从零件到200a€‰mm或300a€‰mm直径的晶圆片直接加载到电或载体上。
价 格：￥电议型 号：Etchlab 200 RIE产 地：欧洲
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Etchlab200德国 Sentech 等离子刻蚀机
产品介绍：sentech etchlab200 经济型反应离子刻蚀机(可升级)，包括抽速更大的真空单元、预真空室及附加气路等。
价 格：￥电议型 号：Etchlab200产 地：欧洲
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Depolab 200德国 Sentech 等离子沉积机
产品介绍：pecvd depolab 200 等离子体沉积机,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合,可以升为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。
价 格：￥电议型 号：Depolab 200产 地：欧洲
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SI 500 PPD德国 Sentech 等离子沉积机
产品介绍：德国sentech pecvd si 500 ppd等离子沉积机,。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，控温基片电，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作si 500 ppd的用户界面。
价 格：￥电议型 号：SI 500 PPD产 地：欧洲
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SI 500 D德国 Sentech 等离子沉积机
产品介绍：德国 sentech si 500 d 等离子沉积机，具有特殊的等离子体特性，如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。
价 格：￥电议型 号：SI 500 D产 地：欧洲
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PE-ALD德国 Sentech 等离子体增强--原子层沉积系统
产品介绍：德国 sentech pe-ald 等离子体增强--原子层沉积系统，是在3d结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入置物实现。等离子增强原子层沉积（peald）是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ald性能的先进方法。
价 格：￥电议型 号：PE-ALD产 地：欧洲
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美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD台式三维原子沉积系统ALD
产品介绍：美arradiance 台式三维原子沉积系统ald，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可最多容纳9片8英寸基片同时沉积。gemstar xt全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。
价 格：￥电议型 号：美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD产 地：美洲
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MEB550SL3法Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机
产品介绍：法plassys超高真空多腔体电子束镀膜机meb550sl3，可以用于沉积ti, ni, au, cr, al, al2o3等金属及氧化物薄膜，目全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。
价 格：￥电议型 号：MEB550SL3产 地：欧洲
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DENTON磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台英国 DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台
产品介绍：denton 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台,提供了薄膜工业中广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。
价 格：￥电议型 号：DENTON磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台产 地：欧洲
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108Auto美TED PELLA 自动离子溅射仪
产品介绍：108auto是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。
价 格：￥电议型 号：108Auto产 地：美洲
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NLD-4000美Nano-master 原子沉积机
产品介绍：nano-master nld-4000 是一款独立式计算机控制的ald系统，全自动工艺控制并包含完整的安全连锁功能，能够沉积半导体应用中的氧化物和氮化物（比如aln, gan, tan, tin, al2o3, zro2, lao2, hfo2），支持太阳能和mems等众多域的应用
价 格：￥电议型 号：NLD-4000产 地：美洲
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CL7000俄罗斯 Optosystem 准分子激光器
产品介绍：俄罗斯 optosystem 准分子激光器：cl7000, 准分子激光器是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（pld），光纤光栅刻写，lasik，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。
价 格：￥电议型 号：CL7000产 地：欧洲
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Sigma SEM德Zeiss 电子束直写仪
产品介绍：德zeiss sigma sem 电子束直写仪,利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等沿域。
价 格：￥电议型 号：Sigma SEM产 地：欧洲
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Orion HDCVD美国Trion 高密度化学气相沉积系统
产品介绍：orion hdcvd 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术，在惰性气体进入口安装感应线圈，周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时，会发生化学反应，然后在衬底表面沉积一层薄膜.
价 格：￥电议型 号：Orion HDCVD产 地：美洲
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Orion III PECVD美国Trion 薄膜沉积系统
产品介绍：美国trion orion iii pecvd 薄膜沉积系统可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。独特的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。
价 格：￥电议型 号：Orion III PECVD产 地：美洲
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TITAN美国Trion 离子刻蚀与沉积系统
产品介绍：titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。titan具有反应离子刻蚀(rie)配置、高密度电感耦合等离子沉积(hdicp)或等离子增强型化学汽相沉积(pecvd)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。
价 格：￥电议型 号：TITAN产 地：美洲
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Oracle III美国Trion反应离子刻蚀与沉积系统
产品介绍：oracle iii由中央真空传输系统(cvt)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 oracle iii是市场上最灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
价 格：￥电议型 号：Oracle III产 地：美洲
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Minilock-Phantom III美国Trion 具有预真空室的反应离子刻蚀机
产品介绍：minilock-phantom iii 具有预真空室的反应离子刻蚀机。适用于单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批量处理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。
价 格：￥电议型 号：Minilock-Phantom III产 地：美洲
