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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品：光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

尼康Nikon光刻机

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

德国YXLON 检测仪

  • G3-8, G3P-8, G3P-12，G3P-15美国SCS旋转涂覆仪

    产品介绍：美国scs旋转涂覆仪g3-8, g3p-8, g3p-12，g3p-15，是一款用于实验室、研发的桌面式仪器，应用于在平面基板上高精度的液体材料涂敷，象光刻胶、聚酰亚胺、金属有机化合物、搀杂剂、硅质薄膜等。g3 旋转涂敷机系统在操作精度和编程灵活性方面采用了新的标准，具有很高的旋转精度和重复精度， 拥有精度高的加速/减速控制。

    价 格：￥电议型 号：G3-8, G3P-8, G3P-12，G3P-15产 地：欧洲

  • Leaflet_ispay-300_cn瑞士Sawatec 3D微观结构的均匀喷涂机

    产品介绍：瑞士sawatec 3d微观结构的均匀喷涂机leaflet_ispay-300_cn，是一款精密的喷胶机，适用于手动喷涂或喷雾显影工艺，主要被应用于研究与开发实验室，尤其是 mems 加工的试产和小量产场合。

    价 格：￥电议型 号：Leaflet_ispay-300_cn产 地：欧洲

  • Leaflet_SMD-200瑞士Sawatec 显影机

    产品介绍：瑞士sawatec 显影机 leaflet_smd-200，用于清洗和显影8英寸(200mm)以下的晶圆或6英寸(150x150mm)以下的基板。

    价 格：￥电议型 号：Leaflet_SMD-200产 地：欧洲

  • HP-150瑞士sawatec 热版机

    产品介绍：瑞士 sawatec热版机hp-150，是为典型的软烘焙和硬烘焙工艺的岩性，在mems和类似的应用。默认情况下，温度范围设计为250℃以下。设定的温度和温度分布具有较窄的边界，这意味着可以达到较高的涂层质量。hp系列产品具有较高的均匀性和高精度的工艺重复性，令人信服。可用于直径150mm以下，大厚度5mm的衬底。

    价 格：￥电议型 号：HP-150产 地：欧洲

  • SM-150瑞士Sawatec 匀胶机

    产品介绍：瑞士sawatec 匀胶机sm-150,是手动或半自动薄膜涂覆的佳选择，适用于表面没有或有非常矮形貌的基板涂胶作业。

    价 格：￥电议型 号：SM-150产 地：欧洲

  • JEM-F200场发射扫描透射电子显微镜

    产品介绍：jem-f200 场发射透射电子显微镜，以节能环保、减排低碳为理念开发的jem-f200场发射透射电子显微镜，不仅提高了空间分辨率和分析性能，还采用了新的操作系统可满足多种使用途径，易用性强，外观设计精炼，能为不同层次的用户提供新奇的操作体验。

    价 格：￥电议型 号：JEM-F200产 地：日本

  • JEM-2100PlusJEOL扫描透射电子显微镜 Plus

    产品介绍：日本电子jem-2100plus 透射电子显微镜，不仅拥有信誉卓著的jem-2100 的电子光学系统，还增加了新的控制系统，大幅提高了可操作性。 多功能电子显微镜jem-2100plus性能优越，操作方便，简明易懂，在材料、医学、生物学等多个研究域提供优异的解决方案。

    价 格：￥电议型 号：JEM-2100Plus产 地：日本

  • JEM-3200FSJEOL场发射电子显微镜

    产品介绍：jem-3200fs场发射电子显微镜配备了高加速电压为300kv的场发射电子枪（feg）和镜筒内置式ω型能量过滤器，能为广泛的研究域提供各种全新的解决方案。

    价 格：￥电议型 号：JEM-3200FS产 地：日本

  • EM-05500TGPTEM断层扫描系统

    产品介绍：日本电子jeol em-05500tgp tem断层扫描系统，采用独特算法的软件，实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。

    价 格：￥电议型 号：EM-05500TGP产 地：日本

  • JED-2300T日本JEOL能谱仪

    产品介绍：jed-2300t 能谱仪是以“图像观察和分析”为基本理念的tem/eds集成系统。在分析数据过程中，自动采集电镜主机的倍率、加速电压等参数，进行数据管理。

    价 格：￥电议型 号：JED-2300T产 地：日本

  • JEM-1000超高压扫描透射电子显微镜

    产品介绍：jem-1000 超高压透射电子显微镜，由于超高压透射电子显微镜的加速电压很高电子波长很短，即使增大物镜靴之间的间隙，也能获得高分辨率的图像。此外，电子束具有很强的穿透能力，即使厚样品也能观察到清晰的图像，这是超高压透射电子显微镜的大优点。

    价 格：￥电议型 号：JEM-1000产 地：日本

  • Quantum XD德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机

    产品介绍：德国nanoscrib 双光子微纳3d打印机quantum x,结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5d的衍射和折射显微光学的快速制作。

    价 格：￥电议型 号：Quantum XD产 地：欧洲

  • Crossbeam 350，Crossbeam 550德国ZEISS蔡司聚焦离子束扫描电镜FIB/SEM

    产品介绍：德国zeiss蔡司聚焦离子束扫描电镜fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550

    价 格：￥电议型 号：Crossbeam 350，Crossbeam 550产 地：欧洲

  • PlasmaPro 800 RIE英国Oxford 反应离子刻蚀机

    产品介绍：plasmapro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（rie）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。

    价 格：￥电议型 号：PlasmaPro 800 RIE产 地：欧洲

  • SII德国 ParcanNano百及纳米单离子注入系统

    产品介绍：parcannano 纳米精准定位的单离子注入系统 sii,基于新型扫描针尖精准定位的离子注入系统，实现有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置。可用于基于电离杂质诱导的量子点所构建的量子信息域，研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系统和量子信息处理器电路的开发。

    价 格：￥电议型 号：SII产 地：欧洲

  • ParanNano百及纳米原子力显微镜（工业型）

    产品介绍：parcannano百及纳米工业型原子力显微镜，可集成大尺寸样品位移台、全自动光学导航系统和配套自动控制软件，可对大尺寸样品 进行全方位的光学成像定位，根据光学成像结果自动标定多个精确测量区域，并根据缺陷/待测结构的特点进行模式识别，智能选取原子力显微镜测量

    价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲

  • P-SPL21百及纳米ParcanNano单探针电子束光刻机

    产品介绍：parcannano单探针电子束光刻系统p-spl，扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米器件。该系统的闭环回路可实现使用同扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。

    价 格：￥电议型 号：P-SPL21产 地：欧洲

  • AFM百及纳米ParcanNano原子力显微镜（快捷型）

    产品介绍：百及纳米parcannano 高速原子力显微镜afm（快捷型），是公司开发的一款颠覆性的新型afm系统。它使用主动式智能针尖，集传感器、驱动器和可功能化的针尖于一身，实现自激发和自传感，无需复杂的激光校准，是取代现有afm激光传感的巨大改进。该系统可在大气、液态及真空环境下实现对微纳米结构的高速、高效表征，成像精度达到0.2纳米的限精度。

    价 格：￥电议型 号：AFM产 地：欧洲

  • OAI 6000 FSA全自动上侧或后侧光刻机

    产品介绍：oai 6000 fsa 全自动上侧或后侧光刻机,具有完全自动化的亚微米分辨率的顶侧或背侧对齐，提供无与伦比的性价比。

    价 格：￥电议型 号：OAI 6000 FSA产 地：美洲

  • 208HR美国TED 高分辨离子溅射仪

    产品介绍：208hr高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，可选择多种镀膜材料，精确的膜厚控制，样品台控制灵活，多个样品座，样品室几何可变，宽范围的操作压力，紧凑、现代的桌上型设计，操作容易。

    价 格：￥电议型 号：208HR产 地：美洲

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