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等离子去胶机(灰化)Plasma Stripper (Asher)
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品牌名称：$brandModel.Title型号：Plasma Stripper (Asher)原产地：欧洲 更新时间：2026/10/19 9:26:24
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详细内容
Plasma Stripper (Asher) 等离子去胶机(灰化)
应用:从蚀刻晶圆片上移除光刻胶
流程配置: RIE/ICP
工作原理
。使用等离子体源，生成单原子反应种。
。氧是常见的反应物质。反应性物质与光阻结合形成灰，
。用真空泵将其除去。
。ICP结构避免了高能离子轰击和电容耦合，
。提供低衬底损伤。
可用气体: O2， N2O
主要性能:
。开放式设计，可快速加载和卸载晶圆。
。基片放置在石英上，以避免溅射/再沉积电材料
。通过顶部电上的“莲蓬头”进气口将气体注入工艺室
。电感耦合等离子体(ICP)和电的独立射频发生器提供对离子能量和离子密度的独立控制
。高电导泵浦端口提供高的气体吞吐量，以快的腐蚀速率
。使用等离子体源，生成单原子反应种。氧是常见的反应物质。
O2 Plasma Stripper (Asher)
Application
Operating Principle
Using a plasma source, a monatomic
reactive species is generated. Oxygen is
the most common reactive species. The
reactive species combines with the photo
resist to form ash which is removed with a
vacuum pump.
ICP configuration avoids energetic ion
bombardment ａnd capacitive coupling,
providing low substrate damage.
Gases Available
O2
N2O
Key Features
• The open-load design allows
fast wafer loading ａnd
unloading.
• Substrate is placed on a quartz
to avoid sputtering/re
deposition of electrode material
• Gas injected into process
chamber via “showerhead” gas
inlet in the electrode
• Separate RF generators for ICP ａnd
electrode provide separate control
over ion energy ａnd ion density
• High conductance pumping port
provides high gas throughput for
fastest etch rates
热门标签：Plasma,Stripper,(Asher)牛津等离子去胶机,牛津等离子去胶机,等离子去胶机
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