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牛津原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE
价格：￥7
品牌名称：$brandModel.Title型号：PlasmaPro 100 ALE原产地：欧洲 更新时间：2026/10/19 9:26:24
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牛津原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE
As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices there is a need for ever more precise process control to create ａnd manipulate these layers. The PlasmaPro 100 ALE delivers this through specialised hardware including:
· Precise control of gas dose
· Excellent repeatability of low power RF delivery
· Rapid switching enabled by fast PLC
All these combine to enable etching with accuracy at the atomic scale.
概述:
我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
PlasmaPro 100 ALE 的特点:
· 准确的刻蚀深度控制；
· 光滑的刻蚀表面
· 低损伤工艺
· 数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD
· 高选择比
· 能加工大200mm的晶圆
· 高深宽比（HAR）刻蚀工艺
· 非常适于刻蚀纳米薄层
应用:
· III-V族材料刻蚀工艺
· 固体激光器InP刻蚀
· VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
· 射频器件低损伤GaN刻蚀
· 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺
· 类金刚石（DLC）沉积
· 二氧化硅和石英刻蚀
· 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆
· 高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
· 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
热门标签：牛津原子层刻蚀机PlasmaPro,100,ALE,Oxford,原子层刻蚀机
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