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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品：光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

当前位置： 阿仪网 > 半导体行业专用仪器设备 > 湿法工艺设备 > 湿法腐蚀/刻蚀设备 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示 > 离子刻蚀与沉积 > 德国Sentech > 德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL

价格：￥电议

品牌名称：$brandModel.Title型号： SI ADL LL/ SI PEALD LL原产地：欧洲 更新时间：2026/10/19 9:27:35

产品摘要：德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

支付方式：

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产品完善度： 访问次数：891

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

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德国Lecia 切片掩膜一体机

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奥地利EVG光刻杨键合机压印机

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德国Netzsch

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企业档案

会员类型：标准版

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阿仪网标准版会员：8年

工商认证 【已认证】

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注册号： 【已认证】

法人代表： 【已认证】

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手机网站：http://wap.app17.com/c143096/

公司网站：http://www.lxyee.net

详细内容

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL


主要特点

· 在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度

· 高度均匀的多层堆叠的长 期稳定沉积

· 真正的远程 CCP 等离子体源

· ALD 实时监控器

应用特点

· 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积

· OLED 的钝化

· 电子设备的钝化

技术特点

· 400/500°C 基板温度

· 300 W，13.56 MHz，CCP 等离子体源

· 4 个带截止阀的前驱体入口

· 直接绘制和起泡线

· 高达 200°C 的壁式加热

· 衬垫

· 560 m3/h 干泵

· 带开盖的装载锁

· 快速节流阀

· 最 大 8 英寸晶圆

· 多达 7 条燃气管线

· TP、CCP阀、臭氧管路、手套箱，实时监控可选


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热门标签：德国Sentech,原子层沉积设备,SI,ADL,LL/,SI,PEALD,LL,原子层沉积

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