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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

当前位置: 阿仪网 > 光学仪器 > 光学应用 > 光学平台 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示 > 离子刻蚀与沉积 > 美国Trion > 美国Trion批量生产用设备去胶系统Gemini 和Apollo

美国Trion批量生产用设备去胶系统Gemini 和Apollo

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title型号:Gemini 和Apollo原产地:美洲 更新时间:2026/10/15 10:41:15

产品摘要:JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统

· 最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。

支付方式:

  • 支付宝 微信 银行转账

产品完善度: 访问次数:1329

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

尼康Nikon光刻机

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

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公司网站:http://www.lxyee.net

详细内容

Trion 去胶系统Gemini 和Apollo
详细介绍

美国Trion Technology
反应式离子刻蚀系统及沉积系统

Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商,Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称,且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备,到简单的实验室研发用系统,尽在Trion。

批量生产用设备去胶系统Geminiollo :

- 低损伤去胶系统

新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平,但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决:
Gemini和Apollo
。利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率,可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求,每套系统可以结合SST-Lightning 微波源(既可靠又没有任何常见的微波调谐问题) 或ICP 技术。

• 刻蚀速率高达6微米/分

• 高产量
• 等离子损伤低

• 自动匹配单元
• 适用于100mm 到300mm 基片

• 设备占地面积小
• 价格具竞争性

热门标签:Trion批量生产用设备-去胶系统Gemini,和Apollo,去胶机

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