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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品：光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

尼康Nikon光刻机

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

德国YXLON 检测仪

  • URE-2000/25型紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000/25 型紫外单面光刻机，曝光面积：4 英寸,分辨力：1 μm（胶厚 2 μm的正胶）,对准精度：± 0.8μm

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/25产 地：中国大陆

  • URE-2000/17型紫外单面光刻机（台式）

    产品介绍：ure-2000/17 型紫外单面光刻机（台式）,曝光面积：4 英寸,分辨力：1.5μm（胶厚 2 m 的正胶）,对准精度：±1μm

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/17产 地：中国大陆

  • URE-2000/35L紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000/35l 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波长）

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/35L产 地：中国大陆

  • URE-2000/35紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000/35 型紫外单面光刻机,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350w 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆

  • URE-2000/35A紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000/35a 型紫外单面光刻机,,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350w 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。

    价 格：￥电议型 号：URE-2000/35A产 地：中国大陆

  • DS-2000/14G型无掩模单面光刻机

    产品介绍：ds-2000/14g 型无掩模单面光刻机,采用 dmd 作为数字掩模，像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜成像，分辨力 1um。

    价 格：￥电议型 号：DS-2000/14G产 地：中国大陆

  • DS-2000/14K无掩膜单面光刻机

    产品介绍：ds-2000/14k 无掩膜单面光刻机，采用 dmd 作为数字掩模，像素数 1024×768，采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。

    价 格：￥电议型 号：DS-2000/14K产 地：中国大陆

  • URE-2000/600 紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000/600 紫外单面光刻机，光束口径： 650mm×650mm，对准精度： ±1.5μm

    价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆

  • URE-2000B 型紫外单面光刻机

    产品介绍：ure-2000b 型紫外单面光刻机，曝光面积：100mmx100mm，分辨力：0.8μm（胶厚 2μm 的正胶）

    价 格：￥电议型 号：产 地：中国大陆

  • Smartlab SE日本Rigaku 智能多功能X射线衍射仪

    产品介绍：日本rigaku 智能多功能x射线衍射仪 smartlab se, 高自动化、多功能衍射仪, 精于形，智于心,易用、智能的全功能x射线衍射仪

    价 格：￥电议型 号：Smartlab SE产 地：日本

  • JSM-IT800SHL日本电子JEOL场发射扫描电镜

    产品介绍：jsm-it800shl 是日本电子株式会社（jeol） 2020 年新推出的场发射扫描电镜，它秉承 jeol 热场发射扫描电镜 jsm-7900f 的大束流，高稳定性的传统，同时将分辨率提高到新的限，全新设计的超混合型物镜，高分辨率的获得以及磁性样品的观察都可以同时完成，而且标配 jeol 新开发的 neo

    价 格：￥电议型 号：JSM-IT800SHL产 地：日本

  • SmartLab日本理学X射线多晶衍射仪

    产品介绍：日本理学 xrd 智能 x 射线多晶衍射仪 smartlab，是当今世界性能的多功能的 x 射线衍射仪，它采用了理学独创的 cbo 交叉光学系统、自动识别所有光学组件、样品台、智能的测量分析软件 smartlab guidance，一台仪器可以智能进行普通粉末样品、液体样品、纳米材料、药品、半导体、薄膜样品测试。

    价 格：￥电议型 号：SmartLab产 地：日本

  • Miniflex 600日本理学XRD X射线衍射仪

    产品介绍：日本理学台式 xrd x 射线衍射仪 miniflex 600，外型小巧方便，具有近于高端分析仪器的测试性能，可以广泛应用于各种材料结构分析的各个领域，是一种适用于大专院校学生实验及研究的 x射线衍射仪,特别适合于野外作业进行材料结构解析

    价 格：￥电议型 号：Miniflex 600产 地：日本

  • Helios 5 CX美国FEI 扫描电镜

    产品介绍：thermo scientific helios 5 d ualbeam 产品系列凭借其最先进的聚焦离子束和电子束性能、专有软件、自动化和易用性特征，重新定义了样品制备和三维表征的标准。

    价 格：￥电议型 号：Helios 5 CX产 地：美洲

  • G200,G200X,iMicro纳米压痕仪

    产品介绍：nano indenter® g200系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。 该系统是一个完全可升级，可扩展且经过生产验证的平台，全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。nano indenter® g200x系统是纳米级机械测试仪器，兼具精准、灵活、易于使用等优点。

    价 格：￥电议型 号：G200,G200X,iMicro产 地：美洲

  • ZEP520A电子束光刻胶

    产品介绍：zep520a是一种高性能正电子束电阻，具有高分辨率、高分辨率敏感性和耐干腐蚀性。适用于各种电子束工艺。

    价 格：￥电议型 号：ZEP520A产 地：欧洲

  • SML Resist英国EM电子束光刻胶

    产品介绍：英国em resist 电子束光刻胶 sml resist ,sml50,sml100,sml300,sm600,sml1000,sml2000

    价 格：￥电议型 号：SML Resist产 地：欧洲

  • AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)AZ-i线光刻胶

    产品介绍：az 光刻胶 az1500 系列，其中型号az1500(1505,1518,1529,1514h,1512hs,1518hs)

    价 格：￥电议型 号：AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)产 地：欧洲

  • AR-PC5090；AR-PC5091德国ALLRESIS导电胶

    产品介绍：德国allresist防护涂层pmma electra 92 (ar-pc 5090)用于非氮基电子束电阻的导电保护涂层用于在绝缘衬底上耗散电子束电荷的顶层

    价 格：￥电议型 号：AR-PC5090；AR-PC5091产 地：欧洲

  • SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075microchem永久性环氧负性光刻胶

    产品介绍：microchem 光刻胶su-8 2000 永久性环氧负性光刻胶:su-8 2025,su-8 2035,su-8 2050,su-8 2075，su-8 2000有12种标准粘度可供选择。薄膜厚度0.5到>200微米,可以通过一个单一的涂层工艺实现。

    价 格：￥电议型 号：SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075产 地：欧洲

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