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日本Advance Riko 超高温高速退火炉HT-RTA59HD，CAS-59AQ
价格：￥电议
品牌名称：$brandModel.Title型号：HT-RTA59HD，CAS-59AQ原产地：日本 更新时间：2026/10/19 9:26:57
。桌面式：HT-RTA59HD
。带水淬：CAS-59AQ
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详细内容
。桌面式：HT-RTA59HD
。带水淬：CAS-59AQ
产品介绍：
HT-RTA59HD 这款桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃，对SiC以及其它高熔点材料进行退火处理。
应用：
• SiC氧化膜的生成和激活；
• 半导体开发与研究；
• 玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理；
• 作为热处理炉对高熔点材料进行热处理；
• 陶瓷材料的热冲击测试。
特点：
。可以在10s内加热到超高温1800℃；
。可以加热后直接水淬；
。红外线灯加热提供清洁加热减少灰尘和气体的生成；
。紧凑的桌面型设计；
。通过USB与电脑连接，输入温度参数；
。在加热过程中，在电脑屏幕显示温度。
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带水淬的型号：CAS-59AQ
设备参数：
| 温度范围 | 室温-1800℃ |
| 样品尺寸 | W15mm×L15mm×T1mm |
| 样品支架 | 氧化铝或者高纯碳 |
| 加热氛围 | 多种 |
| 热电偶 | JIS B φ0.3 （W-Re可选） |
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Advance Riko ultra-high temperature high speed annealing furnace, Japan:
.Desktop: ht-rta59hd
.With water quenching: CAS-59AQ
Product description:
Ht-rta59hd this tabletop ultra-high temperature high speed annealing furnace with high power point focused heating ａnd ultra-high reflection efficiency can heat 15mm×15mm samples to 1800℃ in 10s ａnd annealing SiC ａnd other high melting point materials.
Application:
• generation ａnd activation of SiC oxide film;
• semiconductor development ａnd research;
• heat treatment of glass substrates, ceramics, composites, etc.;
• heat treatment of high melting point materials as a heat treatment furnace;
• thermal shock testing of ceramic materials.
Features:
.Can be heated to ultra-high temperature 1800℃ within 10s;
.Can be directly quenched after heating;
.Infrared lamp heating provides clean heating to reduce the generation of dust ａnd gas;
.Compact desktop design;
.Connect with the computer via USB ａnd input the temperature parameters;
.During the heating process, the temperature is displayed on the computer screen.
热门标签：日本Advance,Riko,超高温高速退火炉,桌面式HT-RTA59HD,带水淬CAS-59AQ
