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紫外光刻胶-薄胶，S 1800 系列，AZ5214, BCI-3511, SPR 955, AZ1500
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品牌名称：$brandModel.Title型号：原产地：中国大陆 更新时间：2026/10/19 9:27:11
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详细内容
紫外光刻胶-薄胶
详细介绍：
类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺 紫外光刻胶-薄胶
S1800系列
g-Line,
broad line
0.5-3.5
0.5um
正性光刻胶，稳定性好；适用于分辨率要求较高的光刻工艺
AZ5214
g/h/i-Line
1-2um
0.5um
反转胶
BCI-3511
i-Line
0.5-2
0.5um
正性i线光刻胶，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）、stepper
SPR 955
i-Line
0.5-3.5
0.35um
正性i线光刻胶，适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀
AZ 1500
g/h/i-Line
0.5-5
1um 正性光刻胶，广泛应用于半导体制造
紫外光刻胶-薄胶
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类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺 紫外光刻胶-薄胶
S1800系列
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反转胶
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SPR 955
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0.5-5
1um 正性光刻胶，广泛应用于半导体制造
详细介绍：
| 类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 |
| 紫外光刻胶-薄胶 | S1800系列 | g-Line, | 0.5-3.5 | 0.5um | 正性光刻胶，稳定性好；适用于分辨率要求较高的光刻工艺 |
| AZ5214 | g/h/i-Line | 1-2um | 0.5um | 反转胶 | |
| BCI-3511 | i-Line | 0.5-2 | 0.5um | 正性i线光刻胶，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）、stepper | |
| SPR 955 | i-Line | 0.5-3.5 | 0.35um | 正性i线光刻胶，适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀 | |
| AZ 1500 | g/h/i-Line | 0.5-5 | 1um | 正性光刻胶，广泛应用于半导体制造 |
详细介绍：
| 类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 |
| 紫外光刻胶-薄胶 | S1800系列 | g-Line, | 0.5-3.5 | 0.5um | 正性光刻胶，稳定性好；适用于分辨率要求较高的光刻工艺 |
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| BCI-3511 | i-Line | 0.5-2 | 0.5um | 正性i线光刻胶，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）、stepper | |
| SPR 955 | i-Line | 0.5-3.5 | 0.35um | 正性i线光刻胶，适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀 | |
| AZ 1500 | g/h/i-Line | 0.5-5 | 1um | 正性光刻胶，广泛应用于半导体制造 |
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