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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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Lifft off光刻胶

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title型号:原产地:中国大陆 更新时间:2026/10/19 9:27:09

产品摘要:Lifft off光刻胶 : RN-218系列, RN-246系列,ma-N 400 系列/1400 系列,AZ nLOF 2000系列, LOR/PGMI, LOL 2000

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产品完善度: 访问次数:1181

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

尼康Nikon光刻机

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

日本理音Rion 微粒子计数器

德国Netzsch

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手机网站:http://wap.app17.com/c143096/

公司网站:http://www.lxyee.net

详细内容

lift off光刻胶



详细介绍:

Liftft off光刻胶 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
RN 218系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 厚膜负性光刻胶
RN 246系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 负性光刻胶
ma-N 400系列/1400系列 g/h/i-Line 4-12um 0.5um 负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺,适用于高温工艺

AZ nLOF 2000系列

i-line

2-11um

0.5um lift off 负性光刻胶,耐特高温;可用于RIE工艺

LOR/PGMI

g/h/i-Line

0.35⁻⁷

0.5um 双层胶工艺
LOL2000 g/h/i-Line 130nm-300nm 0.5um 双层胶工艺

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lift off光刻胶

详细介绍:

Liftft off光刻胶 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
RN 218系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 厚膜负性光刻胶
RN 246系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 负性光刻胶
ma-N 400系列/1400系列 g/h/i-Line 4-12um 0.5um 负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺,适用于高温工艺

AZ nLOF 2000系列

i-line

2-11um

0.5um lift off 负性光刻胶,耐特高温;可用于RIE工艺

LOR/PGMI

g/h/i-Line

0.35⁻⁷

0.5um 双层胶工艺
LOL2000 g/h/i-Line 130nm-300nm 0.5um 双层胶工艺

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lift off光刻胶

详细介绍:

Liftft off光刻胶 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
RN 218系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 厚膜负性光刻胶
RN 246系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 负性光刻胶
ma-N 400系列/1400系列 g/h/i-Line 4-12um 0.5um 负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺,适用于高温工艺

AZ nLOF 2000系列

i-line

2-11um

0.5um lift off 负性光刻胶,耐特高温;可用于RIE工艺

LOR/PGMI

g/h/i-Line

0.35⁻⁷

0.5um 双层胶工艺
LOL2000 g/h/i-Line 130nm-300nm 0.5um 双层胶工艺

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热门标签:Lifft,off光刻胶

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