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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

第8年

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宽带厚胶SU-8

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title型号:SU-8原产地:中国大陆 更新时间:2026/10/19 9:27:09

产品摘要:宽带厚胶,SU-8 10系列:GM1010,GM1020,GM1030,GM1040,GM1050,GM1060,GM1070,GM1075

导电 SU-8 (GCM3060),SPR220, NR26-25000P,AZ P4620.

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产品完善度: 访问次数:976

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

UV灯

日立Hitachi

半导体辅助工艺/光刻胶

光刻胶/硅片

化学开封机 / 激光开封机

日本Elionix

德国Lecia 切片掩膜一体机

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奥地利EVG光刻杨键合机压印机

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参观次数:848592

手机网站:http://wap.app17.com/c143096/

公司网站:http://www.lxyee.net

详细内容

宽带厚胶

详细介绍:

类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
宽带厚胶 SU-8 10系列 g/h/i-Line 0.1-200 0.5um 负性环氧类化学放大光刻胶,具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度.
导电SU-8(GCM3060) 1-50 负性环氧类光刻胶;可导电、粘合性较好,图层应力降低
SPR220 g/h/i-Line 1—30 1um 正性光刻胶,用于MEMS和Bump工艺
NR26-25000P g/h/i-Line 20-130 负性光刻胶,适用于各类接触式光刻机(mask aligner)、stepper、scanner
AZ P4620 g/h/i-Line 6—20 1um 正性光刻胶

SU-8规格(常年现货供应)

型号

GM1010

GM1020

GM1030

GM1040

GM1050

GM1060

GM1070

GM1075

厚度/um
(5000-1000rpm)

< 0.2

< 0.5

< 1.5

0.8-3.2

2.2-8.4

5-27

15-92

50-192





宽带厚胶

详细介绍:

类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
宽带厚胶 SU-8 10系列 g/h/i-Line 0.1-200 0.5um 负性环氧类化学放大光刻胶,具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度.
导电SU-8(GCM3060) 1-50 负性环氧类光刻胶;可导电、粘合性较好,图层应力降低
SPR220 g/h/i-Line 1—30 1um 正性光刻胶,用于MEMS和Bump工艺
NR26-25000P g/h/i-Line 20-130 负性光刻胶,适用于各类接触式光刻机(mask aligner)、stepper、scanner
AZ P4620 g/h/i-Line 6—20 1um 正性光刻胶

SU-8规格(常年现货供应)

型号

GM1010

GM1020

GM1030

GM1040

GM1050

GM1060

GM1070

GM1075

厚度/um
(5000-1000rpm)

< 0.2

< 0.5

< 1.5

0.8-3.2

2.2-8.4

5-27

15-92

50-192


热门标签:宽带厚胶SU-8

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