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HMS-5300LTH韩国Ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪
产品介绍:韩国ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪 hms-5300lth,温度范围:80k-573k,测量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半导体薄膜(p 型和 n 型);
价 格:¥电议型 号:HMS-5300LTH产 地:其它
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LSC-4000美Nano-master 大基片清洗机
产品介绍:美nano-master 大基片清洗机 large substrate cleaning :lsc-4000 是一款独立式清洗机,使用计算机控制,大可支持外径21”的基片。
价 格:¥电议型 号:LSC-4000产 地:美洲
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SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000美NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统
产品介绍:美nano-master swc单晶圆清洗系统swc-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统swc-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统swc-5000 带25片cassette 机械手自动清洗nrt-4000 独
价 格:¥电议型 号:SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000产 地:美洲
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NRT-3500, NRT-4000美NANO-MASTER RTP快速退火炉
产品介绍:美nano-master rtp快速退火炉nrt-3500 紧凑型独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式大批量rtp系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射
价 格:¥电议型 号:NRT-3500, NRT-4000产 地:美洲
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NNDT-4000美Nano-master 热真空太空模拟系统
产品介绍:美nano-master 热真空太空模拟系统 ndt-4000,是一款器件测试系统,俗称“热真空系统”,可以用于真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。
价 格:¥电议型 号:NNDT-4000产 地:美洲
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NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统
产品介绍:美nano-master rie反应离子刻蚀系统nrr-4000 独立式双rie或icp刻蚀系统nre-4000 独立式rie或icp系统nre-3000 台式rie系统ndr-4000 深硅刻蚀系统
价 格:¥电议型 号:NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000产 地:美洲
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NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积系统
产品介绍:美nano-master ald/peald原子层沉积:nld-4000 独立式ald系统nld-3500 紧凑型独立式ald系统nld-3000 台式ald系统
价 格:¥电议型 号:NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000产 地:美洲
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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等离子清洗/灰化系统
产品介绍:nano-master等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独一无二的从等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式的能力。$r
价 格:¥电议型 号:NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地:美洲
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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美NANO-MASTER IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统
产品介绍:ibm离子铣/ibe离子束刻蚀系统:nie-4000 独立式 ibe 刻蚀系统nie-3500 紧凑型独立式 ibe 刻蚀系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射
价 格:¥电议型 号:NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地:美洲
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NEE-4000美NANO-MASTER电子束蒸镀系统
产品介绍:nano-master电子束蒸镀系统 nee-4000,可通过样片掩膜实现组合蒸镀,并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升支持自动上下片,以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的e-beam电子束蒸镀系统,也可以跟磁控溅射
价 格:¥电议型 号:NEE-4000产 地:美洲
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NPE-4000NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统
产品介绍:nano-master的等离子增强化学气相沉积系统pecvd系统npe-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆,可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压,可通过热电阻或者红外灯加热到800°c。ns
价 格:¥电议型 号:NPE-4000产 地:中国大陆
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NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控溅射系统
产品介绍:美nano-master磁控溅射系统:nsc-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展nsc-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的dc溅射,介质材料的rf溅射,以及脉冲dc溅射等应用。nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射nsc-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,也可以用于常规的金属溅射
价 格:¥电议型 号:NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000产 地:美洲
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NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master热蒸镀系统
产品介绍:美nano-master热蒸镀系统:nte-4000 独立式电子束蒸镀,nte-3500 紧凑型独立式热蒸镀,nte-3000 双蒸源台式热蒸镀系统,nte-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟nano-master那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
价 格:¥电议型 号:NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000产 地:美洲
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KZ-30UK理音RION 采样器统
产品介绍:理音rion kz-30uk采样器,易于操作的室内化学采样器,当腔体压力过高的时候, 可以排净空气,防止发生故障 ,设计简单的化学防爆采样器,kz-30uk的设计是可以为 离线测试的液体粒子计数器提供加压。
价 格:¥电议型 号:KZ-30UK产 地:日本
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P140/S140中国nanoArch科研3D打印机
产品介绍:nanoarch 3d打印机p140/s140 ,科研3d打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
价 格:¥电议型 号:P140/S140产 地:中国大陆
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P130/S130中国nanoArch科研3D打印机
产品介绍:nanoarch微纳3d打印机 p130/s130 ,科研3d打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
价 格:¥电议型 号:P130/S130产 地:中国大陆
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M160中国nanoArch科研3D打印机
产品介绍:nanoarch科研3d打印机m160 ,本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统,兼顾高精度和多材料打印,可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3d打印,适用于基础理论验证及原理创新研究,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控,多材料4d打印等方面。
价 格:¥电议型 号:M160产 地:中国大陆
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NanoFrazor 3D瑞士纳米结构高速直写机机
产品介绍:瑞士nanofrazor 3d纳米结构高速直写机,源于发明stm和afm的ibm苏黎世研发中心,是其在纳米加工技术的新研究成果。nanofrazor纳米3d结构直写机第 一次将纳米尺度下的3d结构直写工艺快速化、稳定化。
价 格:¥电议型 号:NanoFrazor 3D产 地:欧洲
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OAI 800 MBA美国OAI光刻机
产品介绍:oai 800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。
价 格:¥电议型 号:OAI 800 MBA产 地:美洲
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绿光纳钻孔设备Standard Drilling Machine绿光纳钻孔设备
产品介绍:玻璃去油墨设备,采用订制紫外纳激光器对玻璃表面进行去油墨以及油墨微加工, 将产品损伤降至低。
价 格:¥电议型 号:绿光纳钻孔设备Standard Drilling Machine产 地:中国大陆








