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美Nano-master等离子清洗/灰化系统NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000
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详细内容
美Nano-master等离子清洗/灰化系统
NPC-4000 独立式等离子清洗去胶系统
NPC-3500 紧凑型独立式等离子清洗去胶系统
NPC-3000 台式等离子清洗去胶系统
NPC-1000 台式简化型等离子清洗去胶系统
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。
特点:
** 不锈钢、铝以及钟罩式腔体
** 超净设计,兼容百超净间使用
** 淋浴头RF离子源
** 旋转样品台
** 260L/Sec抽速的涡轮分子泵
** 限真空5x10⁻⁷Torr
** 偏压样品台可加热到300°C(PID精确控温)或冷却样品台
** 自动或手动RF调谐器
** 多4路带电抛光不锈钢气体管路的MFC
** 全自动计算机控制,菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 计算机控制的气动阀
** 基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动
** LabView友好用户界面
** EMO及安全联锁
选配:
** 泵升为干泵
** 自动上下片
** 增加MFC升为更高型号
** 升为ICP源或微波源
应用:
** 失效分析
** 无残留去除有机和无机材料
** 光刻胶剥离或灰化
** 去残渣及深腐蚀
** 清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜引线框架
** 提高粘附性,消除键合问题
** 塑料品表面改性:O2处理提高涂覆性能
** 生成亲水或疏水表面
热门标签:美Nano-master等离子清洗/灰化系统,NPC-4000,NPC-3500,NPC-3000,NPC-1000













