半导体设备(第14页)_上海隽思实验仪器有限公司

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马弗炉，高温马弗炉
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马弗炉，高温马弗炉

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高温固化烤箱，百级无尘无氧烤箱
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高温固化烤箱，百级无尘无氧烤箱主要应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求。应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化..

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乙烯基三甲氧基硅烷涂胶机 VTMS蒸镀机硅烷偶联剂气相沉积系统
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乙烯基三甲氧基硅烷涂胶机 vtms蒸镀机硅烷偶联剂气相沉积系统在材料进行表面改性，形成防水保护层，主要用于半导体、光电、生物新材料等表面处理工艺、机械乳化剂、橡胶粘结剂，化工油墨分散剂等..

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智能型HMDS蒸镀机台
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智能型hmds蒸镀机台是一种具有预处理性能更好，处理更加均匀，效率高，更加节省药液的智能型烘箱。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。

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无氧烘箱，无氧烤箱氧浓度仪#2023已更新
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无氧烘箱，无氧烤箱氧浓度仪应用于精密电子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合半导体制造、cob封装、医疗卫生、柔性线..

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外延片烘箱，氮气洁净烘箱2023动态已更新《采购/推荐》
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外延片烘箱，氮气洁净烘箱是将清洗后的外延片放入烘箱中，进行干燥处理，以去除清洗液中的水分。将所述外延片放入烘箱中,在120℃～140℃的温度下,将所述外延片烘烤10～30分钟。

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上海百洁净烘箱
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上海百洁净烘箱用于精密电子元件、高温烘烤、坚膜烘烤、半导体元件封装、治具干燥、银胶固化、晶圆退火、芯片高温测试、

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充氮真空烘箱，快速降温真空烤箱
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充氮真空烘箱，快速降温真空烤箱用于键合材料的真空预处理、bcb固化、ito膜退火，pi胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业，适用于工厂、高等院校、科研等场所。

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刻蚀机，湿法刻蚀机@2023已更新报价推荐
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湿法腐蚀和湿法清洗在很早以就已在半导体生产上被广泛接受和使用，许多湿法工艺显示了其优越的性能。硅片清洗也显得尤为重要.湿法腐蚀是一种半导体生产中实现图形转移的工艺,由于其高产出,低成本,高..

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精密烤胶机，高精度烘胶台
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精密烤胶机，高精度烘胶台我司针对研究的需要设计了一种温度控制精度高,板面温度均匀性好,成本低的电加热板,用于光刻胶的烘干

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SECS/GEM协议无尘烘箱，无尘烤箱
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secs/gem协议无尘烘箱，无尘烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；设备可以使用tcp / ip（使用hsms标准，..

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HMDS烤箱机台，HMDS预处理烘箱
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hmds烤箱机台，hmds预处理烘箱箱体外壳采用高级不锈钢制作，内胆为316l医用专用不锈钢材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门..

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硅片百级洁净烤箱，高温洁净烘箱
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硅片百级洁净烤箱，高温洁净烘箱采用单面水平由后向前送风热风循环系统，风源由循环马达运转带动风轮经电热器，将热风由风道送至烤箱内部，且将使用后空气吸入风道成为风源再度循环加热，省电节能温度均..

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无氧烘箱，智能双层无氧烘箱
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无氧烘箱，智能双层无氧烘箱应用于精密电子元件、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升温环境，特别适合半导体制造、cob封装、pcb板烘烤、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密模具..

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黄光区电热鼓风烤箱，非标鼓风干燥箱
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黄光区电热鼓风烤箱，非标鼓风干燥箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料预处理烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及..

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IC氮气烤箱，光刻间用烤箱
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ic氮气烤箱，光刻间用烤箱工作室内充满了惰性气体n2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧烤箱箱主要用于：ic包装，lcd,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板等电子、ic、医疗..

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HMDS真空烘箱，HMDS镀膜烘箱
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hmds真空烘箱，hmds镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层hmds，降低了hmds处理后的硅片接触角，降低了光刻..

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可程式HMDS真空烘箱 HMDS真空烘箱高温HMDS真空烘箱
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可程式hmds真空烘箱 hmds真空烘箱高温hmds真空烘箱用于光刻胶粘合的 hmds 气相沉积晶圆基底脱水烘烤

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PI 无尘烤箱，BCB固化烤箱
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pi 无尘烤箱，bcb固化烤箱是参照gb/t11158-1989，gb2423，2-1989干燥箱技术条件及国家相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，lcd,cmos,ic，医药实验室..

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硅片HMDS涂布机台，4寸Wafer hmds烤箱
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在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子..

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