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更新时间:2026/10/22 11:41:46关注度:2136
关键词标签:HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱
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HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱的特点:
1、安全性高、更加环保,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。
2、hmds熏蒸机效率高,液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达8盒(4寸)的晶片,甚至更多
3、预处理性能好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。
4、均匀性好,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。
5、hmds烘箱更加智能化,智能型的程式设定,一键完成作业。HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。当HMDS液位过低时发出报警提示。
HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱的技术规格:
| 1.设备名称 | HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱 |
| 2、设备型号 | JS-HMDS90 |
| 3、设备主要技术参数 | |
| 3.1 工作室尺寸 | 450×450×450mm(可定做) |
| 3.2 产品架 | 2层 |
| 3.3 温度范围 | RT+10-250℃ |
| 3.4 温度分辨率 | 0.1℃ |
| 3.5 温度波动度 | <±1℃ |
| 3.6 真空度 | ≤133pa |
| 3.7 洁净度 | class 100,设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境 |
| 3.8电源及总功率 | AC 220V±10% 50HZ 总功率 约2.5KW |
| 3.9 控制仪表 | 人机界面 |
| 3.10显示分辨率 | 时间:0.1min |
| 3.11真空泵 | 油泵或干泵 |
无尘烘箱,百级洁净烘箱用途:
无尘烘箱,百级洁净烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤;也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门;也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
无尘烘箱,百级洁净烘箱特点:
1.在普通环境下使用,能够确保烘箱内部等级达到Class 100;
2.全周氩焊,耐高温硅胶破紧,SUS304#不锈钢电热生产器,防机台本身所产生微尘;
3.采平面水平由后向前送风热风循环系统,风源由循环马达运转带动风轮经电热器,将热风由风道送至烤箱内部,且将使用后空气吸入风道成为风源再度循环加热,省电节能温度均匀性好,过滤效率99.99%,Class 100;
4.强制送风循环方式。双风道循环结构,温度场分布均匀,智能P.I.D温控系统,得到高温度控制精度。
无尘烘箱,百级洁净烘箱技术参数:
无尘等级:Class 100;
温度范围: 60~ +300℃;
温度均匀度:200℃±2℃;
温度波动度:±0.5℃(空载)
温控精度:±0.1℃;
工作尺寸:600×600×500
电源:380v , 50Hz,10KW
网板:2块(高度可调节)
洁净等级:洁净度100级的洁净热处理HEPA过滤器与前出风型水平层流循环方式实现并保证箱内的温度分布的均匀性与100级洁净度。最小限度控制风速距离。
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