光刻工艺的八道工序为：晶圆清洗、预烘培和底漆涂敷、光刻胶自旋涂敷、软烘烤、对准和曝光、曝光后烘烤，以及显影、硬烘烤和图形检测，然而工艺中的烘烤步骤需要百洁净烘箱来完成。百洁净烘箱也应用于精密电子元件、高温烘烤、坚膜烘烤、半导体元件封装、治具干燥、银胶固化、晶圆退火、芯片高温测试、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、LED、PCB板、ITO玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.

上海百洁净烘箱技术性能：

无尘等：Class 100;

温度范围： RT+20～250/ 350/500℃；

温度均匀度：±2%℃;

温度波动度：±1℃

温控精度：±0.1℃;

工作尺寸：350*350*350,450*450*450*,500*500*500,600×600×500，多尺寸定制

百洁净烘箱操作界面

采用液晶触摸屏温度控制器，内置曲线查询、

PID自整定、高温上限报警、

运行方式：定值、程式

语言：中、英文

智能型HMDS真空系统（JS-HMDS90-AI）用途：

将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

智能型HMDS真空系统（JS-HMDS90-AI）特点：

HMDS 药液泄漏报警提示功能

HMDS低液位报警提示功能

工艺数据记录功能

药液管道预热功能

程序锁定保护等功能

智能型HMDS真空系统（JS-HMDS90-AI）技术性能：

1.尺寸（深*宽*高）

内腔尺寸：450×450×450（mm）（可定制）

2. 材质

外箱采用冷轧板喷塑，内箱采用 316L 医用不锈钢

3.温度范围

RT+50-250℃

4.温度分辨率

0.1℃

5.温度波动度

≤±0.5

6 真空度

≤133pa（1torr）

7.电源及总功率

AC 220V±10% / 50HZ，总功率约 3.5KW

8.控制仪表

人机界面

9.搁板层数

2 层

10.HMDS控制

可控制HMDS 药液添加量

11.真空泵

无油涡旋真空泵