半导体设备(第9页)_上海隽思实验仪器有限公司

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分类半导体设备

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无氧烘箱，20ppm无氧烘箱
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无氧烘箱，20ppm无氧烘箱应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，形成高温、低氧（无氧）、洁净环境，特别适合半导体制造、cob封装..

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充氮厌氧烘箱，450度厌氧固化炉
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充氮厌氧烘箱，450度厌氧固化炉应用于精密电子元件、聚酰亚胺层（pi）固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合半导体制造、mems制作、工艺cob..

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PI固化专用厌氧烘箱，聚酰亚胺固化炉
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pi固化专用厌氧烘箱，聚酰亚胺固化炉应用聚酰亚胺时需要注意的问题是厚度控制和亚胺化处理。

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有降温功能真空烘箱，300度可降温真空烤箱
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有降温功能真空烘箱，300度可降温真空烤箱用于键合预处理，晶圆，芯片，电容，电池，封装，光刻胶固化，pi固化等

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无氧烘箱，无氧化烘箱
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无氧烘箱，无氧化烘箱用半导体集成电路制造中的封装，坚膜，老化等工艺。pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等

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不锈钢无尘烤箱，双层无尘烘箱
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不锈钢无尘烤箱，双层无尘烘箱应用于目关键的半导体电子行业（如硅片干燥，坚膜烘烤，装片机后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，双层无尘烘箱还在led制造行业中用于烘烤玻璃基板、无机材料行..

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快速热处理退火炉，半导体RTP快速退火炉
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快速热处理退火炉，半导体rtp快速退火炉为我公司根据客户需求业定制的热处理设备，半导体rtp快速退火炉主要用于：快速烧结、快速退火等工艺。具有：温度均匀、控制稳定等特点，触摸屏操作方式（设..

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抗粘剂蒸镀机，抗粘层镀膜机
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抗粘剂蒸镀机，抗粘层镀膜机在基片与弹性支撑层之间还形成有抗黏层，抗黏层般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

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快温变湿箱，热泵式高低温试验箱
型号：参考价：￥咨询

快温变湿箱，热泵式高低温试验箱是用来考核和确定电工、电子、汽车电器、材料等产品，在低温环境条件下贮存和使用的适应性的款试验箱，主要适用干学交，工厂，军工，科研等单位。

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SEM扫描电镜，台式扫描电子显微镜
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sem扫描电镜，台式扫描电子显微镜在电子学研究中，扫描电镜主要可以用来观测及分析半导体、数据存储材料、太阳能电池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形态或缺陷。

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微小型恒温恒湿箱，半导体高低温湿热试验箱
型号：参考价：￥咨询

微小型恒温恒湿箱，半导体高低温湿热试验箱可以用来确认产品在温湿度气候环境条件下储存、运输以及使用适应性。

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光刻工艺HMDS镀膜机，功率MOS器件HMDS镀膜机
型号：参考价：￥咨询

光刻工艺hmds镀膜机，功率mos器件hmds镀膜机

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充氮PI烘箱，PI充氮烤箱
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充氮pi烘箱，pi充氮烤箱升温速率可控，设定工艺曲线，一键运行；辅助降温缩短降温时间，提高生产效率；可达到低氧环境，固化效果更佳。

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电容烘箱，可程式工业烘箱
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电容烘箱，可程式工业烘箱技术先进、设备性能稳定、使用可靠，操作简单，维修方便，同时考虑方案的经济性和可实施性，结合试品特点和试验程序实际情况，实现低投入高产出。

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高加速温湿度应力试验机，高加速老化试验箱
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高加速温湿度应力试验机，高加速老化试验箱是为评估非气密性固态器件在潮湿及电偏压的环境中的可靠性。

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匀胶机，可程式匀胶机
型号：参考价：￥咨询

匀胶机，可程式匀胶机用于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ito导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。

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HMDS涂胶机，智能型HMDS涂胶机，HMDS自动涂胶机
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hmds涂胶机，智能型hmds涂胶机，hmds自动涂胶机将hmds涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地..

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半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱
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半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱内部整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态

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真空储存柜，真空干燥柜
型号：参考价：￥咨询

真空储存柜，真空干燥柜适用于各类化工原料、贵重金属、金属粉末等各种固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、高金属制品、厌氧产品、易氧化..

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高温百无氧烘箱，500度厌氧洁净烤箱
型号：参考价：￥咨询

高温百无氧烘箱，500度厌氧洁净烤箱用pi、bcb 胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、无尘烘干的特殊工艺要求

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