高速AFM Seesaw悬臂扫描电镜表征 飞纳电镜 Phenom Pharos G2应用

飞纳电镜 Phenom Pharos G2 台式场发射扫描电镜用于 Seesaw 高速 AFM 悬臂的加工质量和几何结构验证。扫描电镜检测对象包括数百纳米宽的扭转铰链、约 0.3-0.4 μm 厚的悬臂、悬浮反射板和高纵横比探针。

Seesaw 高速 AFM 悬臂采用刚性反射板与超细扭转铰链分离设计。其制造涉及聚焦离子束加工、悬浮结构释放和探针构建，需要 SEM 对相关尺寸、几何完整性和加工质量进行逐项验证。飞纳电镜 Phenom Pharos G2 在研究中用于微纳结构观察和设计反馈。

飞纳电镜扫描电镜的器件检测任务

图1 Seesaw悬臂结构原理

飞纳电镜 Phenom Pharos G2扫描电镜表征流程

研究团队使用聚焦离子束完成沟槽切割、铰链形成、悬浮结构释放和探针构建。加工过程中，高分辨 SEM 用于确认每一步是否达到设计要求，并为后续结构调整提供图像依据。

图2 Seesaw悬臂微纳加工流程

图3 相关结构的SEM验证结果

扫描电镜结构结果与性能结果如何对应

SEM 结果用于结构和加工质量验证，不能替代共振频率、信噪比和实际 AFM 成像测试。研发中应把相关结构图、加工参数和性能数据进行对应记录。

图4 Seesaw悬臂性能测试

飞纳电镜扫描电镜适用的微纳结构任务

该表征思路适用于高速 AFM 悬臂、MEMS、纳米器件及半导体微结构研发中的加工质量检查和几何结构验证。飞纳电镜 Phenom Pharos G2 在本案例中承担稳定的高分辨率、高景深成像任务。

飞纳电镜扫描电镜应用问答

飞纳电镜 Phenom Pharos G2可验证哪些MEMS结构？

该案例验证了超细扭转铰链、悬浮板、探针和器件整体几何形貌。

扫描电镜在研发流程中的位置是什么？

扫描电镜连接微纳加工与性能测试，用于确认加工结果，并为设计调整提供结构图像。

研究信息

研究论文：doi：10.1038/s41467-025-65240-x