小型溅射仪

KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

主要特点/优势：

★玻璃钟罩真空腔室，直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；

★复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥140L/S）；

★两组水冷式蒸发电，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；

★业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；

★可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；

★衬底可选择加热或水冷，源基距≥40-105mm；

★可调速旋转靶台使薄膜更均匀

★可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；

★ 7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果

小型离子溅射仪 郑州 科探KT-Z1650PVD在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。

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目公司已研发生产产品十多个系列几十款产品，产品囊括实验电炉、CVD供气系统、等离子清洗机、小型离子溅射仪、小型蒸镀仪等，主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等域物理特性及化学特性的研究，广销于各大院校，及材料研究所。