产品展示(第3页)_上海隽思实验仪器有限公司

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无氧烘箱，光刻胶固化烘箱
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无氧烘箱，光刻胶固化烘箱用于精密电子元件、pi胶固化烘烤、bcb固化，光刻胶固化、lcp液晶聚合物热处理、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，

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OAP烘箱，OAP处理烘箱
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oap烘箱，oap处理烘箱处理主要是为了改善亲水性表面，变为疏水性，从而达到增加光刻胶粘附性的作用。

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热风真空烘箱，真空+鼓风一体烘箱
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热风真空烘箱，真空+鼓风一体烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻胶固化、lcp热处理等工艺

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LCP热处理烘箱，LCP纤维氮气烘箱
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lcp热处理烘箱，lcp纤维氮气烘箱是将液晶聚合物(lcp)当加热到足够高的温度，lcp熔融形成液晶熔融相(经常叫做“各向异性相”)而不是各向同性熔融相。

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六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备
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六甲基二硅氮烷(hmds)表面处理设备的工艺是匀胶衬底“增附”处理。容积大小：350*350*350/450*450*450

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PI烘箱，厌氧烘箱
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pi烘箱，厌氧烘箱室温至150℃时，主要为氧元素、水分的脱除；150℃至320℃时，主要是薄膜内残余溶剂的挥发，同时发生脱水环化。

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HMDS烘箱
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hmds烘箱是将hmds蒸汽通过干燥的真空腔内加热到(120-150°c)，在衬底表面上hmds作为单层膜进行化学结合。

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智能型无尘无氧烘箱，高温无尘无氧化烘箱
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智能型无尘无氧烘箱，高温无尘无氧化烘箱又称为pi固化烘箱，厌氧烘箱，高温无氧烘箱，用于pi、bcb胶高温固化、lcp热处理烘烤、光刻胶固化等电子，半导体、新材料行业。

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高温氮气真空烤箱，400度无氧烘箱
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高温氮气真空烤箱，400度无氧烘箱用于光刻胶固化、坚膜，bcb固化、ito膜退火，pi（聚酰亚胺）固化等工艺。

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真空无氧烘箱，PI固化厌氧烤箱
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真空无氧烘箱，pi固化厌氧烤箱用于pi/bcb/lcp固化，半导体封装等。温度范围：rt+30～450℃；温度波动度：±1℃；温控精度：0.1℃;氧浓度：10ppm真..

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热风循环真空烘箱，高温热风真空烤箱
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热风循环真空烘箱，高温热风真空烤箱应用于半导体行业、生物化学、化工制药、医疗卫生、农业研究、环境保护等研究应用域，作粉末干燥、烘培以及干燥热敏性、易分解、易氧化物质和复杂成分物品嘲行快速高..

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超低温试验箱，-196度低温箱
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超低温试验箱，-196度低温箱模拟低温环境技术条件制造，冷处理一些金属材料乃至非金属材料，从而提高他们的强度、硬度、耐磨性和尺寸稳定性等机械性能的仪器。

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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱
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hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

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高温无氧烘箱520L
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高温无氧烘箱520l用于精密电子元件、银胶固化、pi/bcb/bpo胶高温固化烘烤、光刻胶固化、晶圆退火电子陶瓷材料防氧化烘干、测试的特殊工艺要求。

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充氮烤箱，银胶固化氮气烘箱
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充氮烤箱，银胶固化氮气烘箱用于ic芯片制造封装过程的fol– epoxy cure 银胶固化。

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等离子清洗机,等离子表面处理仪
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等离子清洗机,等离子表面处理仪是一种表面处理设备，用气体作为处理介质，它是利用能量转换技术以电能将气体转换为化学反应性和活性很高的气体等离子体，等离子体对固体样品表面进行相互作用，引起分..

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高精度数显恒温加热台
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高精度数显恒温加热台硬烘烤的目的是除去光刻胶内的残余溶剂、增加光刻胶的强度，并通过进一步的聚合作用改进光刻胶的刻蚀与离子注入的抵抗力，增强了光刻胶的附着力。

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GB/T15256-2014低温脆性试验机,橡胶止水带低温脆性试验机
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gb/t15256-2014低温脆性试验机,橡胶止水带低温脆性试验机是根据gb/t15256-2014《硫化橡胶低温脆性的测定（多试样法）》国家标准设计的，最新研制开发的进口压缩机制冷设备..

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数显恒温加热台，高精度加热台
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数显恒温加热台，高精度加热台用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（pre-bake），烘（soft bake），底胶涂覆（primer vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。适应于..

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高温无氧烘箱，充氮高温无氧烤箱
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高温无氧烘箱，充氮高温无氧烤箱应用于mems智能传感器芯片生产、lcd工段生产、玻璃基板等工艺中的pi（聚酰亚胺）固化，bcb聚合物、pbo高温固化，银胶固化，光刻胶固化，镀金方案中感湿膜..

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