六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理的工艺是匀胶衬底“增附”处理。在光刻中，通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底，这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想，这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹”甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善，这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备的性能

HMDS药液低液位报警：

自动吸取HMDS：

可自动添加HMDS：

HMDS药液泄漏报警：

HMDS气体管路加热系统：

参数记录功能：

温度与程序互锁功能：

容积大小：350*350*350/450*450*450/600*600*600（mm）可定制

温度范围：RT+10-250℃

真空度：≤133pa（1torr）

控制系统;人机界面+PLC

搁板层数:2层

HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

真空泵: 涡旋无油泵

不正确的六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理方法
如果液体的HMDS被直接旋涂在衬底上，HMDS层只能起到物理上的粘附层的作用，并不能改善粘附性；其次，HMDS层在烘过程中释放出氨，从衬底附近的进入交联的光刻胶层中，从而抑制显影过程。